離子鍍：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱(chēng)為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。今天電鍍加工廠(chǎng)給大家來(lái)講解下確定電鍍光亮劑的優(yōu)劣的方法，希望能給大家有更多的了解：外觀(guān)好：好的柔軟劑應(yīng)無(wú)色透明,應(yīng)為淡黃色透明,無(wú)分層、無(wú)沉淀物、無(wú)懸浮物。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺(tái)作為陰極，外殼作陽(yáng)極，充入惰性氣體以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過(guò)等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被基片臺(tái)負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場(chǎng)對(duì)離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和亞離子對(duì)基片的濺射清洗作用，使膜層附著強(qiáng)度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點(diǎn)，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。

使用正確的刀尖半徑：更大的刀尖半徑將能夠適應(yīng)更快的速度。某些用于奧氏體不銹鋼拋光工藝不能用來(lái)拋光馬氏體不銹鋼，容易產(chǎn)生腐蝕。插入件能夠以每轉(zhuǎn)約TNR的一半進(jìn)給，并且仍然產(chǎn)生良好的結(jié)果。如果超過(guò)此TNR與IPR比率，該工具將創(chuàng)造更多“線(xiàn)狀”表面光潔度，而不是您想要的光澤光滑表面。因此，TNR越大，它可以容納的進(jìn)給速度越快，并且仍然產(chǎn)生期望的結(jié)果。然而，使用非常大的TNR可以產(chǎn)生顫振- 減少切割壓力- 所以要小心并考慮切割材料所需的速度- 使用符合您需求的TNR工具。

沖壓件加工生產(chǎn)中的在線(xiàn)分區(qū)檢查和抽取檢查

為了提高工件的合格率，需要通過(guò)目視、工具等來(lái)進(jìn)行分區(qū)檢查，同時(shí)還要對(duì)各個(gè)生產(chǎn)階段的沖壓件進(jìn)行抽查，以便于更好的控制整體質(zhì)量。

沖壓件精度檢測(cè)

主要還是利用工具對(duì)沖壓件進(jìn)行全尺寸的精度檢測(cè)，達(dá)到提前對(duì)合格率變化較大的制件進(jìn)行預(yù)警的目的，從而有效避免影響整體產(chǎn)品的尺寸精度。

沖壓件出庫(kù)檢查

這是產(chǎn)品出廠(chǎng)之前的后面一道關(guān)口，通過(guò)出庫(kù)檢查的再次確認(rèn)沖壓件的質(zhì)量和精度，以免有不合格產(chǎn)品流入市場(chǎng)，不管是對(duì)用戶(hù)還是生產(chǎn)廠(chǎng)家而言，都是十分不利的。

TD 表面覆層處理技術(shù)是熔鹽浸鍍法、電解法以及粉末法進(jìn)行表面硬化處理技術(shù)的總稱(chēng)( 在我國(guó)有人稱(chēng): 熔鹽鍍金屬處理)。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點(diǎn)，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。其原理是: 將工件置于硼砂(或其他) 熔鹽的混合物中, 通過(guò)高溫?zé)釘U(kuò)散作用, 在工件表面形成一層數(shù)微米至數(shù)十微米的金屬碳化物覆層。目前國(guó)內(nèi)外應(yīng)用較廣的是碳化釩(VC) 覆層，由于這些碳化物具有很高的硬度(HV=2800～3200)和更嚴(yán)密的組織, 所以經(jīng)過(guò)TD 處理的汽車(chē)模具性能大幅提高, 具有極高的耐磨性、抗咬合性( 拉傷)、耐蝕性；據(jù)資料統(tǒng)計(jì): 日本大批量生產(chǎn)的模具, 85%以上是經(jīng)過(guò)TD 處理的。