真空鍍膜應(yīng)用，簡單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜。真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，膜不易受到污染，因此，可獲得致密性好、純度高、膜層均勻的膜。

物理氣相沉積：在真空狀態(tài)下，鍍膜材料經(jīng)蒸發(fā)或?yàn)R射等物理方法氣化，沉積到基片上的一種制取膜層的方法。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。

化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法。

真空鍍膜的薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。

納米鍍膜產(chǎn)品已為大眾所熟知，并廣泛應(yīng)用在手機(jī)鍍膜領(lǐng)域上，其實(shí)針對納米鍍膜產(chǎn)品的功能特性，它所能適用的范圍領(lǐng)域是很廣泛的。

真空鍍膜技術(shù)一般分為物理液相堆積技術(shù)和有機(jī)化學(xué)液相堆積技術(shù)兩類。物理學(xué)液相堆積技術(shù)是指在真空泵標(biāo)準(zhǔn)下用各種物理方法將電鍍材料揮發(fā)成分子、分子結(jié)構(gòu)或弱電解質(zhì)成正離子，立即堆積在基礎(chǔ)表層的方式。

利用化學(xué)物質(zhì)的熱揮發(fā)和離子轟擊分子在化學(xué)物質(zhì)表層的磁控濺射等物理學(xué)全過程，完成化學(xué)物質(zhì)分子從源化學(xué)物質(zhì)到塑料薄膜的控制轉(zhuǎn)移全過程。電路板鍍膜材料