真空鍍膜技術是一項新興的技術，國際上直到60年代才開始將CVD(化學氣相鍍膜)技術應用到硬質合金工具中。因為這種方法需要在高溫(工藝溫度高于1000oC)下進行，且涂層類型單一，局限性很大，所以在開發(fā)初期還有待改進。真空鍍膜加工廠

、真空鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發(fā)蒸發(fā)，然后沉積到基體表面，蒸發(fā)法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發(fā)成氣相，然后沉積到基體表面，PVD法歷早采用真空蒸鍍技術。

東莞真空電鍍這樣的一個發(fā)展越來越多，而且伴隨著現(xiàn)代的一個發(fā)展，越來越多的真空電鍍更是多，而且重要的一點是真空電鍍技術層出不窮，其真空電鍍鍍層具有優(yōu)異的耐磨性，耐蝕性，鍍層厚度均勻性，致密度高等特點，已在電子產品中獲得大量應用，　

　　東莞真空電鍍廠概述，電的主要用途是，提高金屬制品或者零件的耐蝕性能，提高金屬制品的防護裝飾性能，電鍍能增強金屬的抗腐蝕性，增加硬度，提高導電性，耐熱性等。。

　　PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色有哪些？

　　我們目前能夠做出的膜層的顏色有IP金色（IPG IN18，IPG IN14）,IP玫瑰金，IP黑色，IP槍色，IP鉻色，IP咖啡色及各種顏色的IP間色加工。通過控制鍍膜過程中的相關參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結束后可以用相關的儀器對顏色值進行測量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。

 真空鍍膜是一種產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術用于生產激光唱片(光盤)上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。

為了驗證有限元計算的結果，對真空室的形變和補償進行了測試。第壹步，將四只千分表定位在工作臺安裝基點的真空壁外側，當真空室由大氣抽到真空時，記錄各千分表的變化量，經過一化處理后為用激光自準直儀調整變補償。真空鍍膜價格由水平調整的自準直儀發(fā)出一束激光穿過真空室的玻璃窗照射固定于工作臺上的反射鏡，在大氣環(huán)境下調整變補償調節(jié)機構，使反射光束進入自準直儀接收視場，記錄兩維角度偏差。