鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點

1.   分析流程全自動化控制，實現(xiàn)軟件點火、氣路智能控制功能；

2.   輸出功率自動匹配調(diào)諧，功率參數(shù)程序設(shè)定；      

3.   優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng)，先進的控制系統(tǒng)，保證峰位定位準(zhǔn)確，信背比優(yōu)良；

4.   較小的基體效應(yīng)；      

5.   測量范圍寬，超微量到常量的分析，動態(tài)線性范圍5—6個數(shù)量級；

6.   檢出限低，大多數(shù)元素的檢出限可達(dá)ppb級；

7.   良好的測量精度，穩(wěn)定性相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.5%（5ppm），優(yōu)于國家A等級標(biāo)準(zhǔn)（JJG768-2005）；

8.  

Rf輸出功率的范圍750-1500W，輸出功率穩(wěn)定性小于0.1%；

9.   光電倍增管的負(fù)高壓可在0-1000V范圍內(nèi)獨立可調(diào)，可根據(jù)不同元素的不同譜線單獨設(shè)置條件，和全譜儀器比較有更好的檢出限；

10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全；

11. 精度較高的光室恒溫系統(tǒng)，保證儀器優(yōu)良的長短期精度；

12. 多通道蠕動泵進樣，保證儀器進樣均勻，工作穩(wěn)定；

13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃，在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m（JJG768-2005規(guī)定小于10V/m）。

14. 具有較高的譜線分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線，能分出鐵的四重峰。

15. 人性化的軟件設(shè)計，操作方便，終身免費升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中，進行數(shù)據(jù)處理，方法編制和結(jié)果分析，是真正的多任務(wù)工作軟件；該軟件數(shù)據(jù)處理功能強大，提供了多種方法，如內(nèi)標(biāo)校正、IECS和QC監(jiān)測功能等，可獲得的背景扣除點以消除干擾；對輸出數(shù)據(jù)可直接打印或自動生成Excel格式的結(jié)果報告。

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬，雙向觀測，冷錐消除尾焰，具有更寬的動態(tài)線性范圍和更低的背景。

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，有效穩(wěn)定，體積小巧，匹配速度快，確保Plasma 3000

ICP光譜儀精度較高運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

高速面陣 CCD 采集技術(shù)，單次曝光獲取全部譜線信息，Plasma 3000 ICP光譜儀真正實現(xiàn)“全譜直讀”。

功能強大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程。應(yīng)用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

由鋼研納克承擔(dān)的國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用”取得重要進展。本專項開發(fā)內(nèi)容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質(zhì)譜儀。目維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題，接近于商品水平的產(chǎn)品樣機將于年內(nèi)完成；ICP質(zhì)譜儀第二代研發(fā)樣機已成功組裝和調(diào)試，采集到正確的譜圖，這一突破標(biāo)志著在第二代樣機上采用的自主設(shè)計的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個關(guān)鍵、難點技術(shù)已經(jīng)實現(xiàn)原理攻克。為高質(zhì)量、按期完成項目任務(wù)和本單位新產(chǎn)品開發(fā)任務(wù)奠定了堅實的基礎(chǔ)。