六氟化硫是一種無色、無臭、無毒、不燃的惰性氣體，它的分子量為146.07，在20℃和0.1 MPa時(shí)密度為6.1kg/m3，約為空氣密度的5倍。還可以金屬氧化物為催化劑于300℃下用空氣氧化四氟化liu，或者在500～2000℃使氟化硫熱解。六氟化硫在常溫常壓下為氣態(tài)，其臨界溫度為45.6℃，三相點(diǎn)溫度為-50.8℃，常壓下升華點(diǎn)溫度為-63.8℃。

儲(chǔ)存注意事項(xiàng)：儲(chǔ)存于陰涼、通風(fēng)的庫房。遠(yuǎn)離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃。應(yīng)與易（可）燃物、氧化劑分開存放，切忌混儲(chǔ)。儲(chǔ)區(qū)應(yīng)備有泄漏應(yīng)急處理設(shè)備。

純凈的SF6氣體雖然無毒，但在工作場(chǎng)所要防止SF6氣體的濃度上升到缺氧的水平。SF6氣體的密度大約是空氣的五倍、SF6氣體如有泄漏必將沉積于低洼處，如電纜溝中。濃度過大會(huì)出現(xiàn)使人窒息的危險(xiǎn)，設(shè)計(jì)戶內(nèi)通風(fēng)裝置時(shí)要考慮到這一情況。

　　在電弧作用下SF6的分解物如SF4，S2F2，SF2，SOF2，SO2F2，SOF4和HF等，它們都有強(qiáng)烈的腐蝕性和毒性。因此在電力系統(tǒng)GIS等應(yīng)用SF6的工作場(chǎng)所，要加裝SF6氣體泄漏監(jiān)測(cè)設(shè)備。

紅外光譜技術(shù)（IAC510）

紅外光譜吸收技術(shù)(又稱激光技術(shù)）的原理是SF6作為溫室氣體，對(duì)特定波段的紅外光有很強(qiáng)烈的吸收特性。隨后進(jìn)行純化，使產(chǎn)物氣化并通過10%的KOH熱溶液（不用NaOH）洗滌除去其中的雜質(zhì)（HF，SF2，SF4，SOF2，S2F10）。紅外光譜技術(shù)的特點(diǎn)是成本高，結(jié)構(gòu)復(fù)雜，靈敏度高，不受環(huán)境的影響和干擾，對(duì)環(huán)境的溫度和濕度的變化所帶來的檢測(cè)誤差很小，由于其是采用主動(dòng)抽取測(cè)試點(diǎn)氣體的原理，帶來的效果是發(fā)現(xiàn)泄漏早，反應(yīng)迅速。同時(shí)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)對(duì)工程實(shí)施中的布線也帶來了很大的方便。

高純六氟化硫的應(yīng)用

 六氟化硫的使用可以增加設(shè)備運(yùn)行的安全性、縮小設(shè)備體積、延長(zhǎng)設(shè)備壽命。近幾年，國(guó)家大力發(fā)展基礎(chǔ)電力行業(yè)，給六氟化硫廠家?guī)砹撕艽蟮氖袌?chǎng)機(jī)遇。

高純六氟化硫(純度在99.99%以上)，國(guó)內(nèi)需求非常旺盛，而且附加值較高。

 高純六氟化硫主要用于半導(dǎo)體工業(yè)中作清洗氣體。

 六氟化硫的成本只有NF3的幾分之一，近年來，各公司以廉價(jià)的SF6取代以往CVD工藝中作為清洗氣體的NF3的新技術(shù)正被廣泛研究。

 該技術(shù)在大幅降低液晶產(chǎn)品加工中占相當(dāng)比例的CVD氣體成本的同時(shí)，還顯示出了極i佳的環(huán)保前景，近年來用量有明顯的提高。

 據(jù)權(quán)i威機(jī)構(gòu)預(yù)測(cè)，2010年我國(guó)將成為僅次于美國(guó)的世界第二大集成電路市場(chǎng)，總需求量約為500億美元。目前國(guó)內(nèi)使用高純六氟化硫作為蝕刻氣的生產(chǎn)線約有50條左右預(yù)計(jì)。2016年將達(dá)到700噸左右，

 國(guó)內(nèi)使用六氟化硫作為蝕刻氣的生產(chǎn)線有近50條，在未來的五年預(yù)計(jì)將有20條至30條新線建成。而國(guó)內(nèi)高純六氟化硫產(chǎn)品遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足市場(chǎng)需求，半導(dǎo)體廠家所用高純產(chǎn)品大部分依賴進(jìn)口，這給高純六氟化企業(yè)提供更多的發(fā)展機(jī)遇。每年約消耗高純六氟化硫?yàn)?00噸左右。而國(guó)內(nèi)高純六氟化硫產(chǎn)品遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足市場(chǎng)需求，半導(dǎo)體廠家所用高純產(chǎn)品大部分依賴進(jìn)口，這給高純六氟化企業(yè)提供更多的發(fā)展機(jī)遇。