納米鍍膜

直接蒸鍍法。是被鎮(zhèn)基材直接通過真空鍍膜機(jī)，將金屬鋁蒸鍍?cè)诨谋砻娑纬慑冧X薄膜。直接蒸鍍法對(duì)基材的要求較高，尤其是要形成表面光亮的金屬膜，要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，要采用直接蒸鍍法，在鍍鋁前需先進(jìn)行表面涂布。③成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。另外，在蒸鍍過程中基材的揮發(fā)物要少。因此直接蒸鍍法對(duì)基材有較大的局限性，它主要適合于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質(zhì)量要求高，并對(duì)紙的定量有限度。

Parylene是這些組裝方式的防護(hù)材料，5微米厚就能耐1000V以上直流擊穿電壓，因此在微機(jī)電系統(tǒng)中，Parylene是一的電介質(zhì)材料。同時(shí)，對(duì)傳感器的防酸、堿和及對(duì)水汽和鹽霧等惡劣環(huán)境有的阻隔防護(hù)能力。  

Parylene活性分子的良好穿透能力在元件內(nèi)部，底部、周圍形成無氣隙的防護(hù)層。優(yōu)良的防潮、防化學(xué)品和耐溶劑性能優(yōu)良的介電絕緣性能、微米級(jí)的精密制作、極薄的膜層仍具極優(yōu)的電性能、物理機(jī)械性能和防腐蝕功能。

化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相沉積等。

真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)：(1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。抽真空：將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走加熱烘烤：爐體和工件同時(shí)加熱，加速殘余氣體的釋放壓升率測(cè)試：測(cè)試爐體的漏氣率和放氣率轟擊清洗：去除工件表面的雜志，露出新鮮表面鍍膜：沉積膜層冷卻：避免工件氧化變色。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無環(huán)境污染。