EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜

EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負(fù)電極組成。在直流電場的作用下，淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構(gòu)成的通道分別向負(fù)極和正極方向遷移，陽離子透過陽離子交換膜，陰離子透過陰離子交換膜，分別進(jìn)入濃水室形成濃水。同時(shí)EDI進(jìn)水中的陽離子和陰離子跟離子交換樹脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水(高純水)。超極限電流使水電解產(chǎn)生的大量氫離子和氫氧根離子對離子交換樹脂進(jìn)行連續(xù)的再生。傳統(tǒng)的離子交換，離子交換樹脂飽和后需要化學(xué)間歇再生。而EDI膜堆中的樹脂通過水的電解連續(xù)再生，工作是連續(xù)的，不需要酸堿化學(xué)再生。

超純水設(shè)備之預(yù)處理系統(tǒng)的保養(yǎng)

預(yù)處理系統(tǒng)一般由砂濾器、碳濾器、軟化器三部分組成，砂濾器和碳濾器要及時(shí)注意沖洗，以便將器體中累積的雜質(zhì)去除，以防顆粒較大的雜質(zhì)進(jìn)入反滲透機(jī)組造成膜堵塞，以自來水為原水的超純水設(shè)備，其砂碳過濾器每個(gè)三天就要沖洗一次，當(dāng)然對于全自動的超純水設(shè)備，其沖洗程序自動進(jìn)行，相對比較省時(shí)省力。

超純水和純水可以具體歸納如下：

A電導(dǎo)率不同，純水電導(dǎo)率在 2-10us/cm 之間，超純水的電導(dǎo)率為 0.056us/cm;

B制造的難易程度不同，目前市場上使用的純水基本上都是經(jīng)過反滲透、蒸餾等方法制得，而超純水是純水的基礎(chǔ)上還要經(jīng)過光氧化技術(shù)、精處置和拋光處理等一系列復(fù)雜的純化技術(shù)制得的;

C 重金屬、細(xì)菌、微粒數(shù)等指標(biāo)也大不相同，純水雜質(zhì)含量是 ppm 級，而超純水為 ppb 級，簡單地說超純水中已經(jīng)沒有什么雜質(zhì)，接近于理論上的水;

D 使用的領(lǐng)域也不相同;

E 對輸送管道材質(zhì)的要求也不相同，超純水對輸送管道材質(zhì)的要求要比純水嚴(yán)格的多。

電子行業(yè)超純水凈化

  電子、半導(dǎo)體工業(yè)的芯片生產(chǎn)在制作過程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質(zhì)達(dá)不到生產(chǎn)工藝用水的要求或者水質(zhì)不穩(wěn)定的話，會影響到后續(xù)工藝的處理效果和使用壽命。此外，清洗和機(jī)械碾磨過程中都會產(chǎn)生廢水，造成對環(huán)境的污染。

　　 三一通過使用超濾、反滲透、EDI和核子級離子交換系統(tǒng)來生產(chǎn)滿足需求的超純水。并將生產(chǎn)過程中所產(chǎn)生的廢水經(jīng)過膜系統(tǒng)的處理進(jìn)行回收再利用，在很大程度上減少了電子、半導(dǎo)體行業(yè)的用水量、降低了生產(chǎn)成本。

     微電子行業(yè)包括了電解電容器生產(chǎn)、電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、液晶顯示器的生產(chǎn)、晶體管生產(chǎn)、集成電路生產(chǎn)、電子新材料生產(chǎn)等生產(chǎn)工藝，都需要工業(yè)超純水。傳統(tǒng)化學(xué)及介質(zhì)過濾生產(chǎn)超純水的方法，會因在水中添加各種化學(xué)劑，制備過程冗長等各種因素造成產(chǎn)水的不穩(wěn)定，無法確保長期、穩(wěn)定的超純水。

     三一采用“物理”凈化法（超濾→反滲透→EDI→拋光混床），使超純水制備從傳統(tǒng)的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復(fù)合離子交換器等發(fā)生了一次革命，從此進(jìn)入了一個(gè)無需再生化學(xué)品的時(shí)代。