現(xiàn)代電顯微鏡放大倍數(shù)要看到原子核里面還是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠的

但原子核則比這個(gè)原子的電子外殼直徑還要小100000倍，因此，現(xiàn)代電顯微鏡放大倍數(shù)要看到原子核里面還是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠的。 當(dāng)然，顯微鏡的放大倍數(shù)并不能這么簡(jiǎn)單理解，分辨率多少還有很多復(fù)雜的因素確定，這里只大致給出一個(gè)參考。顯微鏡的種類很多，如光學(xué)顯微鏡就有暗視野顯微鏡、相位差顯微鏡、熒光顯微鏡、偏光顯微鏡等等；電子顯微鏡有透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡、掃描隧道顯微鏡、原子力顯微鏡等等。

細(xì)磨粗磨后的試樣,磨面上仍有較深的磨痕,為了消除這些磨痕必須

細(xì)磨 粗磨后的試樣，磨面上仍有較粗較深的磨痕，為了消除這些磨痕必須進(jìn)行細(xì)磨。細(xì)磨，可分為手工磨和機(jī)械磨兩種， 目前機(jī)械磨是主要的磨樣方式。 目前普遍使用的機(jī)械磨設(shè)備是預(yù)磨機(jī)。電動(dòng)機(jī)帶動(dòng)鋪著水砂紙的圓盤轉(zhuǎn)動(dòng)，磨制時(shí)，將試樣沿盤的徑向來(lái)回移動(dòng)，用力要均勻，邊磨邊用水沖。水流既起到冷卻試樣的作用，又可以借助離心力將脫落砂粒、磨屑等不斷地沖到轉(zhuǎn)盤邊緣。機(jī)械磨的磨削速度比手工磨制快得多，但平整度不夠好，表面變形層也比較嚴(yán)重。因此要求較高的或材質(zhì)較軟的試樣應(yīng)該采用手工磨制。

金相顯微鏡明場(chǎng)/暗場(chǎng)區(qū)別

金相顯微鏡明場(chǎng)/暗場(chǎng)區(qū)別？ 什么是明場(chǎng)：是通過直射光線將物體照亮之后，將反射光直接進(jìn)入成像系統(tǒng)，然后使物體成像。所成得像則為彩色的圖像，不過對(duì)于一些微小的裂紋跟劃傷等則看不清晰。 什么是暗場(chǎng)：傾斜入射的光線打在檢驗(yàn)區(qū)域的旁邊，完全不進(jìn)入成像系統(tǒng)，能進(jìn)入成像系統(tǒng)的只是被受照物體表面的微粒散射或衍射的光線，成像後得到的是這些亮的微粒像，成像為黑白圖像。 可以更清楚看到細(xì)小的劃傷跟裂紋。