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RR41光刻膠公司推薦廠家 北京賽米萊德公司

發(fā)布時(shí)間:2020-12-17 07:35  

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光刻膠趨勢(shì)

半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域全球市場(chǎng)規(guī)模趨于穩(wěn)定, 2017年全球市場(chǎng)約13.5億美元;國(guó)內(nèi)市場(chǎng)約20.2億元,近5年復(fù)合增速達(dá)12%。受全球半導(dǎo)體市場(chǎng)復(fù)蘇和國(guó)內(nèi)承接產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移,預(yù)計(jì)全球光刻膠市場(chǎng)將保持穩(wěn)定增速,國(guó)內(nèi)市占率穩(wěn)步抬升。

光刻膠生產(chǎn)、檢測(cè)、評(píng)價(jià)的設(shè)備價(jià)格昂貴,需要一定前期資本投入;光刻膠企業(yè)通常運(yùn)營(yíng)成本較高,下游廠商認(rèn)證采購(gòu)時(shí)間較長(zhǎng),為在設(shè)備、研發(fā)和技術(shù)服務(wù)上取得競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì),需要足夠的中后期資金支持。企業(yè)持續(xù)發(fā)展也需投入較大的資金,光刻膠行業(yè)在資金上存在較高的壁壘,國(guó)外光刻膠廠商相對(duì)于國(guó)內(nèi)廠商,其公司規(guī)模更大,具有資金和技術(shù)優(yōu)勢(shì)。正性光刻膠樹(shù)脂是一種叫做線(xiàn)性酚醛樹(shù)脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的粘附性、化學(xué)抗蝕性,當(dāng)沒(méi)有溶解存在時(shí),線(xiàn)性酚醛樹(shù)脂會(huì)溶解在顯影液中,感光劑是光敏化合物,最常見(jiàn)的是重氮萘醌(DNQ)。

總體上,光刻膠行業(yè)得到國(guó)家層面上的政策支持。《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》,提出“研發(fā)光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、離子注入機(jī)等關(guān)鍵設(shè)備,開(kāi)發(fā)光刻膠、大尺英寸硅片等關(guān)鍵材料”;LCD市場(chǎng)助力全球LCD面板總出貨面積增長(zhǎng),LCD光刻膠需求增加。國(guó)家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域(2015)中提到“高分辨率光刻膠及配套化學(xué)品作為精細(xì)化學(xué)品重要組成部分,是重點(diǎn)發(fā)展的新材料技術(shù)”;光刻技術(shù)(包括光刻膠)是《中國(guó)制造 2025》重點(diǎn)領(lǐng)域。


PR1-1500A1RR41光刻膠公司

正性光刻膠的金屬剝離技術(shù)

正性膠的金屬剝離工藝對(duì)于獲得難腐蝕金屬的細(xì)微光刻圖形比常規(guī)的光刻膠掩蔽腐蝕法顯示了優(yōu)越性。本文首先對(duì)金屬剝離工藝中的正、負(fù)光刻膠的性能作了對(duì)比分析。認(rèn)為正性光刻膠除圖形分辨率高而適應(yīng)于微細(xì)圖形的掩膜外,它還具有圖形邊緣陡直, 去膠容易等獨(dú)特性能,比負(fù)性光刻膠更有利于金屬剝離工藝。然后給出了具體的工藝條件,并根據(jù)正性光刻膠的使用特點(diǎn)指出了工藝中的關(guān)鍵點(diǎn)及容易出現(xiàn)的問(wèn)題。在前烘過(guò)程中,由于溶劑揮發(fā),光刻膠厚度也會(huì)減薄,一般減薄的幅度為10%-20%左右。如正性光刻膠同GaAs表面的粘附性較差,這就要求對(duì)片子表面的清潔處理更為嚴(yán)格。為了高止光刻圖形的漂移控制光刻圖形的尺寸,對(duì)曝光時(shí)同特別是顯影液溫度提出了嚴(yán)格的要求。由于工藝中基本上不經(jīng)過(guò)腐蝕過(guò)程,膠膜的耐腐蝕性降到了次要地位。


NR9-1000py

問(wèn)題回饋:

1.我們是LED制造商,麻煩推薦幾款可以用于離子蝕刻和Lift-off工藝的光刻膠。

A 據(jù)我所知,F(xiàn)uturrex

有幾款膠很,NR7-1500P

NR7-3000P是專(zhuān)門(mén)為離子蝕刻

設(shè)計(jì)的,NR9-3000PY可以用于Lift-off上的應(yīng)用。

2.請(qǐng)問(wèn)有沒(méi)有可以替代goodpr1518,Micropure去膠液和goodpr顯影液的產(chǎn)品?

A 美國(guó)光刻膠,F(xiàn)uturrex

正膠PR1-2000A

, 去膠液RR4,和顯影液RD6可以解決以上問(wèn)題。

3.你們是否有可以替代Shipley

S1805的用于DVD的應(yīng)用產(chǎn)品?

A 我們建議使用Futurrex

PR1-500A , 它有幾個(gè)優(yōu)點(diǎn):比較好的解析度,比較好的線(xiàn)寬控制,

反射比較少,不需要HMDS,RIE后去除容易等~

4. 求助,耐高溫的光阻是那一種?

A Futurrex, NR7 serious(負(fù)光阻)Orpr1 serious(正光阻),再經(jīng)過(guò)HMCTS

silyiation process,可以達(dá)到耐高溫200度,PSPI透明polyimide,可耐高溫250度以上。

5.厚膜光阻在鍍金應(yīng)用上,用哪一種比較理想?

A Futurrex , NR4-8000P比干膜,和其他市面上的濕膜更加適合,和理想。

6.請(qǐng)教LIFT-OFF制程哪一種光阻適合?

A 可以考慮使用Futurrex

,正型光阻PR1,負(fù)型光阻用NR1&NR7,它們都可以耐高溫180度,完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。

7.請(qǐng)問(wèn),那位專(zhuān)家知道,RIE

Mask,用什么光阻比較好?

A 正型光阻用PR1系列,負(fù)型光阻使用NR5,兩種都可以耐高溫180度。

8.一般厚膜制程中,哪一種光阻適合?

A NR9-8000P有很高的深寬比(超過(guò)4:1),一般厚膜以及,MEMS產(chǎn)品的高需求。

9.在DEEP

RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P嗎?

A 建議不使用,因?yàn)槭褂肗R5-8000更加理想和適合。

10.我們是OLED,我們有一種制程上需要一層SPACER,那種光阻適合?

A 有一種膠很適合,美國(guó)Futurrex

生產(chǎn)的NR1-3000PY

and和

NR1-6000PY,都適合在OLED制程中做spacers



發(fā)展

Futurrex在開(kāi)發(fā)產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長(zhǎng)的歷史

我們的客戶(hù)一直在同我們共同合作,創(chuàng)造出了很多強(qiáng)勢(shì)的專(zhuān)利產(chǎn)品。

在晶體管(transistor) ,封裝,微機(jī)電。顯示器,OLEDs,波導(dǎo)(waveguides) ,VCSELS,

成像,電鍍,納米碳管,微流體,芯片倒裝等方面。我們都已經(jīng)取得一系列的技術(shù)突破。

目前Futurrex有數(shù)百個(gè)專(zhuān)利技術(shù)在美國(guó)專(zhuān)利商標(biāo)局備案。

Futurrex 產(chǎn)品目錄

正性光刻膠

增強(qiáng)粘附性正性光刻膠

負(fù)性光刻膠

增強(qiáng)粘附性負(fù)性光刻膠

先進(jìn)工藝負(fù)性光刻膠

用于lift-off工藝的負(fù)性光刻膠

非光刻涂層

平坦化,保護(hù)、粘接涂層

氧化硅旋涂(spin-on glas)

摻雜層旋涂

輔助化學(xué)品

邊膠清洗液

顯影液

去膠液

Futurrex所有光刻產(chǎn)品均無(wú)需加增粘劑(HMDS)