真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的不足，且各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)都優(yōu)于傳統(tǒng)工藝，在五金、機(jī)械、化工、模具、電子、儀器等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比，在技術(shù)上有哪些？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復(fù)利用，大大降低了成本。

2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡(jiǎn)單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時(shí)不經(jīng)任何處理。

3、多弧離子鍍膜無(wú)污染，無(wú)毒無(wú)味，無(wú)三廢排放，屬國(guó)家環(huán)保產(chǎn)品技術(shù)。

4、多弧離子鍍膜好處理、使用方便；形狀復(fù)雜的金屬基件都能處理。

5、多弧離子鍍膜硬度大，硬度增強(qiáng)、催化液泡過(guò)的金屬基件硬度是多弧離子鍍膜工藝的幾倍。

6、多弧離子鍍膜不會(huì)生銹，催化液浸泡過(guò)的金屬基件已滲透表皮里面，不起皮、不脫落。

真空鍍膜的膜層厚度如何測(cè)量？

在使用真空鍍膜機(jī)鍍膜之后，為了需要可能會(huì)要測(cè)量膜層的厚度，測(cè)量膜層的厚度用什么方法呢?

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源，通過(guò)PID控制循環(huán)驅(qū)動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。

只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過(guò)程。但是(QCM)的精準(zhǔn)度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。

此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時(shí)，它會(huì)變得對(duì)溫度非常敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過(guò)程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對(duì)膜層造成重大誤差。

光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的優(yōu)選監(jiān)控方式，這是因?yàn)樗梢愿珳?zhǔn)地控制膜層厚度(如果運(yùn)用得當(dāng))。

精準(zhǔn)度的改進(jìn)源于很多因素，但根本的原因是對(duì)光學(xué)厚度的監(jiān)控。

真空鍍膜機(jī)PVD涂層技術(shù)有哪些優(yōu)點(diǎn)

真空鍍膜機(jī)PVD涂層技術(shù)適用于各種加工要求和工件材料的高速鋼和硬質(zhì)合金工具，那么它有哪些優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)呢？下面至成小編為大家詳細(xì)介紹一下：

（1）PVD膜層能直接鍍?cè)诓讳P鋼以及硬質(zhì)合金上，對(duì)比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD，但是水鍍后做PVD容易起泡，不良率較高；

（2）典型的PVD涂層加工溫度在250℃~450℃之間；

（3）涂層種類(lèi)和厚度決定工藝時(shí)間，一般工藝時(shí)間為3~6小時(shí)；

（4）PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；

（5）PVD技術(shù)不僅提高了鍍膜與基體材料的結(jié)合強(qiáng)度，涂層成分也由TiN發(fā)展為T(mén)iC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元復(fù)合涂層，形成不同的顏色的表面效果。

（6）目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過(guò)控制鍍膜過(guò)程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對(duì)顏色值進(jìn)行測(cè)量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。