潔凈廠房的建筑圍護結(jié)構(gòu)和室內(nèi)裝修，應選用氣密性良好，且在溫度和濕度變化時變形小的材料。

潔凈室內(nèi)墻壁和頂棚的裝修應符合下列要求:

1 潔凈室內(nèi)墻壁和頂棚的表面應平整、光滑、不起塵、避免眩光、便于除塵，并應減少凹凸面。

2 踢腳不應突出墻面。

3 潔凈室不宜采用砌筑墻抹灰墻面，當必須采用時宜干燥作業(yè)，抹灰應采用高ji抹灰標準。墻面抹灰后應刷涂料面層，并應選用難燃、不開裂、耐清洗、表面光滑、不易吸水變質(zhì)發(fā)霉的涂料。

    無塵潔凈棚又名凈化潔凈棚、百級潔凈棚、千級潔凈棚、萬級潔凈棚，為在亂流式之無塵車間空間內(nèi)以防靜電之透明塑料布圍成一小空間，采用獨立之HEPA或 ULPA及空調(diào)送風機組而成為較好潔凈空間，內(nèi)部空間高度在2.0米左右，覆蓋面積約50m2以下，四支支柱可加裝活動輪，可為彈性運用，可配套風淋室使用。

    無塵潔凈棚材料：無塵潔凈棚的框架一般有：不銹鋼方通，鐵方通，鋁型材三種。無塵潔凈棚頂部材料一般有：不銹鋼板，冷軋鋼板噴塑，防靜電網(wǎng)格圍簾，(防靜電)亞克力板三種。潔凈送風部分，一般選擇FFU層流罩(FFU層流送風單元)無塵潔凈棚的圍護材料一般包括：防靜電圍簾，(防靜電)亞克力板兩種。

潔凈室中的溫濕度控制：

    潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。

    具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。

    濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)蕞佳溫度范圍為35—45%。