對于這些問題，在后期調查時發(fā)現(xiàn)出現(xiàn)這類問題的幾個原因：

1、新風口面積太小。有的醫(yī)院的新風防雨百葉風口竟與新風管道的尺寸一樣大。這樣造成新風很快就堵塞，新風供應不足，而且新風口風速過高，噪聲很大。

2、排風量過小，排風方式單一。

3、送回風布置不均勻、氣流不平衡。

4、噪聲過大。

解決方案：

1、新風量設計一定要夠。需要考慮排除室內異味、熱量等的排風量，好設計成變頻新風量調節(jié)模式，與排風量成比例調節(jié)。新風口的設計要科學，考慮到百葉風口的有效面積，還要考慮過濾網(wǎng)的容塵量。

2、結合室內使用功能，特別是ICU人員集中的區(qū)域，一定要考慮醫(yī)護人員高強度工作狀態(tài)、人員用餐、病個人清潔衛(wèi)生時各種狀態(tài)下所產生的熱量、異味的排風量。好設計成智能變頻風量控制系統(tǒng)。

3、送、回風系統(tǒng)的設計，一是考慮風速的控制要合理，二是送回風口在室內的布置一定要平衡、均勻，每個送風口、回風口支路都要安裝閥門。4、噪聲過大的原因，主要是由設計不合理、選型不科學、施工不當造成的。

主要把好以下幾點：

（1）設備選型風壓要合理，不能太大，也不能太小。

（2）風機選用后彎式低噪聲離心風機。

（3）在送回風主管上安裝雙腔微孔板消聲器，必須安裝消聲直段和消聲彎頭。

（4）空調設備盡量遠離使用區(qū)域。

（5）風管選型設計時要考慮噪聲問題，流速不得過大。

（6）在送回風主干管相交處做消聲靜壓箱，靜壓箱凈高不低于600mm。

（7）送回風口選型設計時一定要考慮風口的有效面積的風速，盡量尺寸宜選大一點。

空氣潔凈屏與凈化空調系統(tǒng)相比有如下弱點：

1、送風量較小。屏的尺寸和風機噪聲決定不能使用大風量的風機，因此風量相對較小。

2、噪聲較大。原因是風機就安裝在屏上，不易進行隔聲處理。

3、氣流組織效果較差。頂送頂回的送回風方式，而且距離很近，出風風速較小，氣流衰減后使室內氣流置換效果欠佳。

4、高過濾器使用壽命較短。因風壓較小決定過濾器的容塵量不會很大，所以一旦使用后風量較小時效果不會很好，就必須更換過濾器。

5、過濾效率較凈化空調系統(tǒng)低。因為選擇的過濾器要求初阻力低，決定了過濾器濾紙的密度會有所降低，因經過濾效果比凈化空調所選用的高過濾器效率低。

6、只能處理空氣，還另外需要空調提供冷熱源。所以需另行設計空調系統(tǒng)。建議這種方式不宜使用傳統(tǒng)的新風機組＋風機盤管＋風管＋風口的集中空調系統(tǒng)。因為風道內會存留大量灰塵和細菌，而又無法清洗消毒，設備一旦運行時會將管道內的塵埃和細菌吹入室內，造成二次污染。

7、不能加濕、除濕，無法進行溫濕度控制。這個方案適用于對濕度無要求的房間。

在確認風速、換氣次數(shù)和靜壓差的檢測無明顯問題之后，再檢測含塵濃度。

1）檢測工具：微風速儀、分辨率為1Pa的斜管微壓計、數(shù)字式溫濕度測量儀（可顯示小數(shù)后一位的）、帶倍頻程分析儀的聲級計、高精度數(shù)位式照度儀、光散射式粒子計數(shù)器（流率不小于2.83L/min）。

2）單向流手術室系統(tǒng)的系統(tǒng)總風量調試結果與設計風量的允許偏差為0～20%，室內各風口風量與設計風量的允許偏差為15%。

3）新風量與設計新風量的允許偏差為10%。

4）空調冷熱水、冷卻水總流量測試結果與設計流量的偏差不應大于10%。

5）工作區(qū)截面風速的檢驗對Ⅰ級潔凈手術室達到100級潔凈度的手術區(qū)和有局部100級的Ⅰ級潔凈輔助用房中達到100級潔凈度的區(qū)域應先測其工作區(qū)截面平均風速，綜合性能檢測結果不應小于0.27m/s，速度均勻度β≤0.25。

6）換氣次數(shù)的檢驗對Ⅱ、Ⅲ、Ⅳ級潔凈手術室和潔凈輔助用房應通過檢測送風口風量換算得出換氣次數(shù)，綜合性能檢測結果不應小于潔凈手術部用房技術指標規(guī)定范圍的均值，并不應超過此范圍上限的1.2倍或根據(jù)需要的設計值的1.2倍。當測送風面平均風速時，測點高度在送風面下方0.1m以內，測點之間距離不應超過0.3m。測點范圍為送風口邊界內0.05m以內的面積，均勻布點。

7）靜壓差的檢驗應在潔凈區(qū)所有門都關閉的條件下，從平面上里面的房間依次向外或從空氣潔凈度級別高的房間依次向低級別的房間，測出有孔洞相通的相鄰兩間潔凈用房的靜壓差，綜合性能測定結果應大于規(guī)范要求。測定高度距地面0.8m，測孔截面平行于氣流方向，測點選在無渦流無回風口的位置。

8）潔凈度級別的檢驗當送風口集中布置時，應對手術區(qū)和周邊區(qū)分別檢測。當送風口分散布置時，按全室統(tǒng)一布點檢測，測點可均布，但不應布置在送風口正下方。