同電解拋光比較，化學(xué)拋光的優(yōu)點是：不需外加電源，可以處理形狀更為復(fù)雜的零件，生產(chǎn)等，但是化學(xué)拋光的表面質(zhì)量，一般略低于電解拋光，溶液的調(diào)整和再生也比較困難，往往拋光過程中會析出氧化氮等有害氣體。

化學(xué)拋光是在不供電情況下產(chǎn)生拋光效果，其拋光原理與利用電流作用的電解拋光在本質(zhì)上沒有太大差別。

化學(xué)方法拋光設(shè)備簡單，能夠處理直徑比較小的細管、帶有深孔的形狀復(fù)雜的零件。多數(shù)金屬的化學(xué)拋光溶液都采用各種酸，生產(chǎn)過程中散發(fā)出大量酸霧污染環(huán)境，在使用上受到一定的限制。

化學(xué)拋光中往往同時產(chǎn)生氫氣，這是在拋光具有氫脆敏感性材料時必須注意的問題。另外拋光液溫度高達100~200CC時，還會發(fā)生退火作用。為了把氫脆和退火作用的影響降到，就必須在適溫度范圍內(nèi)選擇盡可能短的拋光時間。

化學(xué)拋光與機械研磨拋光有本質(zhì)上的不同。

化學(xué)拋光是將被研磨面上的微小凸部與凹部相比較的情況下使其凸部優(yōu)先溶解，改善金屬表面粗糙度，獲得平滑光亮表面的過程。

化學(xué)拋光的原理：金屬試樣表面各組成相的電化學(xué)電位不同，形成了許多微電勢，在化學(xué)溶液中會產(chǎn)生不均勻溶解。在溶解過程中試樣面表層會產(chǎn)生一層氧化膜，試樣表面凸出部分由于粘膜薄，金屬的溶解擴展速度較慢，拋光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能達到十分理想的要求。

化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。

化學(xué)拋光的原理 金屬材料或制件在配比合理的腐蝕劑、氧化劑、添加劑組成的拋光溶液中浸 蝕,經(jīng)發(fā)生一系列反應(yīng)后,表面變得潔凈光亮,稱為化學(xué)拋光。