各種油漬，指紋（人的手接觸機械零件時），碳沉積物（由加熱油脂形成）和各種表面涂層都是機械零件表面上的常見污垢。如果要解決這些油漬和污垢，請使用金屬化學(xué)清洗劑是一種很好的方法，并且已被廣泛使用。

用金屬化學(xué)清洗劑化學(xué)清洗機械零件的主要方法是脫脂化學(xué)清洗。原因是用于機械零件的材料主要是鋼，鑄鐵，不銹鋼等，并且在加工過程中廣泛使用各種切削液，潤滑劑和防銹油。

礦物油或植物油是各種切削液，潤滑油和防銹油的主要成分。將以上產(chǎn)品用于機械零件時，機械零件表面會存在油脂。在進行下一步之前，大多數(shù)公司的機械零件都需要拆卸，因此金屬化學(xué)清洗劑的用途越來越廣泛。

損壞機械零件的原因之一是大多數(shù)油脂都是粘性的。另外，它還會引起機械零件的腐蝕。例如，不銹鋼在淬火過程中容易被腐蝕的原因是，在淬火過程中機械零件表面上的油會產(chǎn)生碳顆粒，這會導(dǎo)致腐蝕和對不銹鋼零件的損壞。這就要求使用金屬化學(xué)清洗劑進行化學(xué)清洗，以確保不銹鋼金屬零件的質(zhì)量。內(nèi)蒙古化學(xué)化學(xué)清洗。

化學(xué)清洗淺談傳統(tǒng)串油和化學(xué)清洗管路工藝

1 化學(xué)清洗的具體步驟

在系統(tǒng)安裝完畢，正確性、完整性及密性檢驗合格，按圖2對系統(tǒng)改裝完成后，可進行化學(xué)管路清洗，具體步驟如下：

(1) 對分離的各單元部件敞口均要進行有效封堵，以防贓物、異物等進入單元部件內(nèi)部。

(2) 將中性除銹劑SN-100與淡水按一定比例配置好，然后臨時通過注水柜將其加注到清洗管系系統(tǒng)內(nèi)，加注期間應(yīng)對管路進行適當放氣，以使化學(xué)溶液完全充滿整個管系。

(3) 啟動臨時化學(xué)清洗泵開始對管系進行循環(huán)清洗，清洗時間的長短取決于當時的環(huán)境溫度，原則上為48 h左右。

(4) 清洗期間應(yīng)保持臨時化學(xué)清洗泵連續(xù)運轉(zhuǎn)。

(5) 清洗期間應(yīng)使用木錘(或者氣動振動裝置)對清洗管路進行連續(xù)敲擊，以震落管內(nèi)雜質(zhì)從而提高清洗效率。

(6) 清洗期間應(yīng)定期檢查濾器，并視濾紙清潔程度及時予以更換。持續(xù)循環(huán)清洗直至濾紙一直保持清潔為止，然后將管系泄放干凈。

向管系內(nèi)重新加注淡水進行循環(huán)沖洗，并加入一定比例的防銹劑SN-200對管路內(nèi)部進行漂洗防銹處理，原則上時間為20 h左右，將管系泄放干凈。

(8) 使用經(jīng)過臨時氣水分離器處理過的壓縮空氣對清洗管路進行吹除干燥，確保管路中無潮氣。

(9) 清洗完成后拆除臨時清洗設(shè)備和管路，將系統(tǒng)恢復(fù)正常工作狀態(tài)。

按照上述步驟對外管路清洗完成，內(nèi)部管路串油工藝和傳統(tǒng)串油工藝相同。

2 化學(xué)清洗的注意事項

化學(xué)清洗外部管路有以下事項需要注意：

(1) 管路密性必須試壓完成，確保管路通暢，形成完整的回路，卻沒有泄漏。

(2) 如果管路內(nèi)部油及污垢較多可在除銹前利用脫脂劑脫脂除油。

(3) 除銹劑SN-100置換成SN-200過程要在常溫狀態(tài)下進行，防止溫度過高管內(nèi)出現(xiàn)空氣，導(dǎo)致管路銹蝕。

化學(xué)清洗和安全知識

1 化學(xué)清洗

在半導(dǎo)體器件工藝實驗中。化學(xué)清洗是指去除吸附在半導(dǎo)體、金屬材料和器具表面的各種有害雜質(zhì)或油漬。清洗方法是利用各種化學(xué)試劑和有機助熔劑，使吸附在被清洗物體表面的雜質(zhì)和油類發(fā)生化學(xué)反應(yīng)溶解，或輔以超聲波、加熱、真空等物理措施，將雜質(zhì)除去。從要清潔的物體。表面解吸（或解吸），然后用大量高純冷熱去離子水沖洗，得到干凈的表面。

1.1 化學(xué)清洗的重要性

工藝實驗中的每個實驗都有化學(xué)清洗的問題?；瘜W(xué)清洗的質(zhì)量對實驗結(jié)果有嚴重影響。如果過程處理不當，將得不到實驗結(jié)果或?qū)嶒灲Y(jié)果很差。因此，了解化學(xué)清洗的作用和原理對工藝實驗具有重要意義。眾所周知，半導(dǎo)體的重要特性之一是對雜質(zhì)非常敏感。只要有百萬分之一甚至少量的雜質(zhì)，就會對半導(dǎo)體的物理性能產(chǎn)生影響。方法。各種功能半導(dǎo)體器件的制造。但也正是因為這個特點，給半導(dǎo)體器件的工藝實驗帶來了麻煩和困難。用于清潔的化學(xué)試劑、生產(chǎn)工具和水可能成為有害雜質(zhì)的來源。即使是干凈的半導(dǎo)體晶圓更長時間暴露在空氣中也會引入明顯的污染物?；瘜W(xué)清洗是去除有害雜質(zhì)，保持硅片表面清潔。