ICP光譜儀

目前ICP光譜儀主要分為多道型、單道掃描型以及全譜直讀型，其中多道型和單道掃描型代表的是80年代的技術水平，它們以光電倍增管為檢測器，技術上非常成熟，但也較落后，其中多道型已幾乎退出歷史舞臺，單道掃描型以其合適的價格和靈活方便仍占有一定的市場份額。全譜直讀型儀器代表了當今ICP的新技術水準，它以CID或CCD(SCD)半導體器件為檢測器；中階梯光柵結合棱鏡(或平面光柵)構成二維、高分辯率、高能量色散系統(tǒng)，能同時獲得各元素譜線的信息。此類型儀器經近十年的不斷完善和發(fā)展，目前已成為ICP光譜儀的主流。

Plasma2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”成果。采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現全譜采集。儀器穩(wěn)定性好、檢測限低、快速分析、運行成本低。

鋼研納克Plasma2000 全譜電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業(yè)、農業(yè)、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析?？梢钥焖?、準確地檢測從微量到常量約70種元素。

由鋼研納克承擔的國家重大科學儀器設備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”取得重要進展。本專項開發(fā)內容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質譜儀。目前二維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題，接近于商品水平的產品樣機將于年內完成；ICP質譜儀第二代研發(fā)樣機已成功組裝和調試，采集到正確的譜圖，這一突破標志著在第二代樣機上采用的自主設計的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個關鍵、難點技術已經實現原理攻克。為高質量、按期完成項目任務和本單位新產品開發(fā)任務奠定了堅實的基礎。

鋼研納克“ICP痕量分析儀器的研制與應用”項目順利通過驗收

2016年4月12日，北京市科學技術會在鋼研納克永豐產業(yè)基地主持召開了國家重大科學儀器設備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”項目(項目編號2011YQ140147)初步驗收會議。

本次初步驗收會由李建玲處長主持，會議成立了項目初步驗收技術專家組，金國藩院士作為專家組組長。專家組聽取了項目及各承擔單位的匯報，審閱了相關資料，進行了現場檢查，經質詢和討論，終形成了驗收評審意見。

和專家一致認為項目驗收材料齊全、規(guī)范，符合驗收要求。項目成功開發(fā)出具有自主知識產權的ICP全譜光譜儀、ICP質譜儀兩種痕量分析儀器整機，實現推廣應用;攻克了ICP射頻源、四極桿射頻源、激光燒蝕固體直接進樣系統(tǒng)、多位自動進樣裝置、基于中階梯光柵和大面積CCD采集的高分辨二維分光系統(tǒng)、碰撞反應池、中階梯光柵刻劃、四極桿等關鍵部件、關鍵技術及核心元器件技術和工藝難題;針對國內用戶的普遍特點和特殊需求，在儀器中集成了多功能開放性軟件、譜線和分析方法數據庫，提升國產分析儀器的國際競爭力。項目執(zhí)行期內共完成了分析方法、應用、對比報告51篇，形成行業(yè)標準8項，38項(其中授權19項)，軟件著作權4項，發(fā)表65篇。項目預期目標全部實現。

在工程化和產業(yè)化方面，項目牽頭單位已經在永豐建成ICP光譜儀、ICP質譜儀產業(yè)基地，將可靠性管理的理論、工具、方法和裝備應用于分析儀器開發(fā)的全流程，建立了完整的質量管理體系，建設了ICP射頻源、激光燒蝕進樣系統(tǒng)、ICP全譜光譜儀、ICP質譜儀4條生產線。ICP全譜光譜儀已經獲得生產許可證書，產品已經銷售至寧夏、浙江、山東、新疆、湖南、河南及國外(伊朗)等地，產品經過安裝和調試，均順利通過驗收。