離子真空鍍膜機鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法是怎樣的呢？

離子真空鍍膜機鍍膜產(chǎn)品表面大多采用過渡族金屬（如Ti、Zr、Cr）或其合金的氮、碳、氧的化合物，還有用非晶碳（類金剛石）膜的。一般來說，這些化合物本身的化學惰性比較高，耐腐蝕性能很好。但是一些裝飾鍍層產(chǎn)品包括表件、手機殼、高爾夫球頭等，卻未能通過人工汗腐蝕試驗或中性鹽霧腐蝕試驗。裝飾鍍層產(chǎn)品的腐蝕不單是鍍層本身的耐蝕性問題，還包括裝飾鍍層 基體的系統(tǒng)腐蝕問題。許多研究工作都表明離子鍍裝飾鍍層自身耐蝕性好，它鍍在金屬（如不銹鋼）基體上，對基體整體均勻抗腐蝕能力有提高，但裝飾鍍層很薄，不可避免地存在表面缺陷﹐如微裂紋、微孔、孔、柱狀晶界、電弧沉積的宏觀顆粒等。腐蝕介質可通過這些缺陷所形成的通道，穿過鍍層到達基體。

光學真空鍍膜機鍍膜技術和裝備

光學真空鍍膜機給人感覺，遙不可及，但是現(xiàn)如今光學鍍膜機在市場上使用非常廣泛了，也得到了很多廠商的認可和喜愛。今天至成小編為大家講解一下關于光學鍍膜相關的知識。光學薄膜是現(xiàn)代光學和光電系統(tǒng)重要的組成部分，在光通信、光學顯示、激光加工、激光核聚變等高科技及產(chǎn)業(yè)領域已經(jīng)成為核心元器件，其技術突破常常成為現(xiàn)代光學及光電系統(tǒng)加速發(fā)展的主因。光學薄膜的技術性能和可靠性，直接影響到應用系統(tǒng)的性能、可靠性及成本。隨著行業(yè)的不斷發(fā)展，精密光學系統(tǒng)對光學薄膜的光譜控制能力和精度要求越來越高，而消費電子對光學薄膜器件的需求更強調(diào)超大的量產(chǎn)規(guī)模和普通大眾的易用和舒適性。

多弧離子真空鍍膜機的由來

我國在真空鍍膜行業(yè)，目前更多的應用都集中在裝飾方面，對能有效地提高關鍵部件使用壽命機械功能薄膜的制備設備、工藝及應用研究方面還遠遠落后于國外先進水平。同時，裝飾鍍方面也逐漸向耐磨和裝飾雙重功能的方向發(fā)展，之前的離子鍍膜機已體現(xiàn)出不能滿足裝飾鍍要求的問題。本技術的研發(fā)成功，將打破國內(nèi)機械功能耐磨減摩薄膜完全依靠國外技術的被動局面；對提高我國裝備制造業(yè)的技術水平和真空離子鍍的技術發(fā)展都是一個非常好的示范作用。另外，將制備的耐磨減摩薄膜應用于其它關鍵部件中，起到了非常好的節(jié)約能源和提率的示范作用，可替代部分原來電鍍的工藝，對環(huán)境保護起到很好的作用。

目前，國際上機械功能硬質薄膜（特別是刀具用膜層）大多采用陰極電弧沉積技術，但陰極電弧沉積存在的主要技術問題是所制備的膜層表面不夠光潔，有較多的顆粒，影響應用性能；特別是國內(nèi)制造的陰極電弧沉積設備顆粒問題尤為嚴重。在此技術基礎上引入磁過濾技術，雖可解決表面沉積的顆粒問題，但沉積效率只有原來的1/10左右，并且沉積面積小，從而使生產(chǎn)周期長，制造成本高，不適合大批量鍍膜生產(chǎn)應用。而磁控濺射技術所制備的膜層表面光潔、細膩，沉積速率適中，能均勻地大面積沉積薄膜。但磁控濺射技術也存在離化率低（一般在10％），所制備的膜層在硬度、耐磨性及結合力上不如陰極電弧技術所制備的膜層；在進行化學反應性鍍膜（如TiN、TiO2）時，由于金屬粒子的離化率低、反應活性差，必須過量通入反應性氣體，造成磁控靶面的毒化（化學反應），引起蒸發(fā)速率急劇降低等一系列雪崩式后果，使得磁控濺射反應鍍膜存在著不穩(wěn)定性和不可控性。