4.要經(jīng)常清理拋光液中的沉淀物:不允許金屬物掉在拋光液中，否則將會造成拋光液的浪費進而失效。

五:拋光液檢測之常規(guī)技術指標分析

1.拋光液PH值檢測指標-般在5. 5- -6. 5

2.拋光液外觀檢測指標為黃色粘稠液體,可通過目測來完成

3.拋光液粘度檢測指標-般在500- 100cps

4、拋光液有害物質檢測指標:菌落總數(shù)、大腸菌群、致病菌、重金屬.等

5.拋光液其他檢測指標:粒度分布、固含量、密度、稀釋比例、環(huán)保性能等

聚胺脂拋光片打孔的優(yōu)點  為了增加拋光液的流動性、提高拋光速率，采用打孔類型的聚胺脂拋光片，一般孔的大小為2mm左右，根據(jù)鏡片口徑的大小、設備的轉速、R值的不同，孔的排列形式分為90度、60度、45度，更適用于球面加工。

聚胺脂拋光片帶背膠的優(yōu)點  聚胺脂的粘結要選用流動性比較好的膠，有冷膠和熱膠兩種，如果膠層不均勻帶來拋光片的不平整，而造成拋光的光圈不穩(wěn)，所以采用帶背膠的拋光片能達到膠層均勻，一般帶背膠的聚胺脂拋光片多用平面加工。

 拋光墊是化學機械拋光(CMP)系統(tǒng)的重要組成部分。它具有貯存拋光液,并把它均勻運送到工件的整個加區(qū)域等作用。

     拋光墊的性能主要由拋光墊的材料種類、材料性能、表面結構與狀態(tài)以及修整參數(shù)等決定。拋光墊的剪切模量或增大拋光墊的可壓縮性,CMP過程材料去除率增大;采用表面合理開槽的拋光墊,可提高材料去除率,降低晶片表面的不均勻性;拋光墊粗糙的表面有利于提高材料去除率。對拋光墊進行適當?shù)男拚梢栽黾訏伖鈮|表面粗糙度、使材料去除率趨于一致。與離線修整相比較,在線修整時修整效果比較好。

拋光墊表面溝槽形式(平行與垂直交叉型或同心環(huán)形)、溝槽形狀(V型、U型或楔型)、溝槽方向以及溝槽尺寸(深度、寬度和間距)等對磨料的分布和流動、拋光墊的壽命有著顯著的影響。采用表面開有圖1所示不同深度槽的兩種阻尼布拋光墊的拋光實驗

福吉結果表明：當整個拋光墊表面的槽足夠深時，槽的深度對拋光過程沒有影響，但拋光墊表面任何位置的槽磨損會影響到拋光過程甚至致使工件表面質量(工件表面不均勻性)惡化。