鍍膜技術(shù)在信息存儲(chǔ)領(lǐng)域中的應(yīng)用

薄膜材料作為信息記錄于存儲(chǔ)介質(zhì)，有其得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗；磁化反轉(zhuǎn)極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。

物理氣相沉積（PVD）是一種真空鍍膜工藝，許多人知道常用于提高切削刀具的性能。但北京丹普表面技術(shù)有限公司的真空鍍膜機(jī)設(shè)備可以提供陰極電弧PVD涂層服務(wù)可提供更硬，更潤(rùn)滑的產(chǎn)品，與未涂層工具相比，可將工具壽命提高10倍。耐磨表面。 此外，制造商越來越多地使用PVD涂層來區(qū)分其設(shè)備的外觀與類似產(chǎn)品和/或增強(qiáng)其設(shè)備的性能，因?yàn)橛操|(zhì)惰性涂層具有生物相容性，不會(huì)與骨骼發(fā)生反應(yīng)，組織或體液。由于灰塵對(duì)鍍膜效果會(huì)產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設(shè)備中留下灰塵，應(yīng)該在使用中注意以上幾點(diǎn)來盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。涂覆PVD涂層的的實(shí)例包括，鉆頭和針頭，以及用于各種裝置組件以及應(yīng)用的“磨損”部件。

蒸發(fā)式真空鍍膜機(jī)的工作原理：通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之知一。 蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子道以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)專源的蒸發(fā)速率和時(shí)間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。對(duì)于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。2、鍍膜技術(shù)在刀具、模具等金屬切削加工工具方面的應(yīng)用在生活中我們會(huì)看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等，這些就是經(jīng)過鍍膜技術(shù)加工后的涂層工具。從蒸發(fā)源到基片的屬距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為0.1～0.2電子伏。簡(jiǎn)言之，蒸發(fā)式真空鍍膜機(jī)的工作原理就是真空室內(nèi)利用電阻加熱法，把緊緊貼在電阻絲上面的金屬絲熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑反射率的膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。

真空鍍膜設(shè)備，主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類。

真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。

該設(shè)備具有：結(jié)構(gòu)合理，膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便，能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。有機(jī)高分子鍍膜設(shè)備公司