離子鍍，是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質離子化，在氣體離子或蒸發(fā)物質離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物質或其反應物蒸鍍在工件上。離子鍍把輝光放電、等離子技術與真空蒸鍍技術結合在一起，不僅明顯地提高了鍍層的各種性能，而且，大大擴充了鍍膜技術的應用范圍。

離子鍍除兼有真空濺射的優(yōu)點外，還具有膜層的附著力強、繞射性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點。例如，利用離子鍍技術可以在金屬、塑料、陶瓷、玻璃、紙張等非金屬材料上，涂覆具有不同性能的單一鍍層、合金鍍層、化合物鍍層及各種復合鍍層，而且沉積速度快（可達755m/min），鍍前清洗工序簡單，對環(huán)境無污染，因此，近年來在國內外得到了迅速的發(fā)展。

磁控濺射：在真空環(huán)境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜。根據(jù)使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。

離子束DLC：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧涂層的離子束源采用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優(yōu)點在于可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，并可將工藝過程中的顆料污染所帶來的缺陷降至。

在真空度較高的環(huán)境下，通過加熱或高能粒子轟擊的方法使源材料以原子、分子或離子的形式逸出沉積物粒子，并且逸出的粒子在基片上沉積形成薄膜的技術。.PVD大家族里主要有三位成員：真空蒸發(fā)沉積技術（蒸鍍）；濺射沉積技術；離化PVD技術。

蒸鍍是在真空環(huán)境下，以各種加熱方式賦予待蒸發(fā)源材料以熱量，使源材料物質獲得所需的蒸汽壓而實現(xiàn)蒸發(fā)，所發(fā)射的氣相蒸發(fā)物質在具有適當溫度的基片上不斷沉積而形成薄膜的沉積技術。