蝕刻機可以分為化學蝕刻機及電解蝕刻機兩類。在化學蝕刻中是使用化學溶液，經(jīng)由化學反應(yīng)以達到蝕刻的目的，化學蝕刻機是將材料用化學反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。    

1、蝕刻機噴頭的介紹    蝕刻機噴頭是蝕刻機噴淋裝置中的一個部件，藥液噴淋的形狀是根據(jù)蝕刻機噴頭的種類來決定的，不同的蝕刻機噴頭所起到的作用是不一樣的。蝕刻機噴頭的作用及維護    2、蝕刻機噴頭的作用    主要作用是把蝕刻液均勻的噴淋到工件上，蝕刻機噴頭根據(jù)蝕刻機每道工序所對應(yīng)的要求所選擇不同的種類。比如：常規(guī)情況下蝕刻段選擇用扇形，因為蝕刻段對壓力的要求比較高，而我們扇形噴嘴噴淋出的液體壓力會相對較高;顯影段和退膜段我們就采用錐形噴嘴，因為這兩處需要覆蓋面廣，而錐形噴嘴剛好就有這種特性。    3、蝕刻機噴頭的維護    蝕刻液是通過蝕刻機噴頭頂端的小孔把給噴淋出來，這個小孔的直徑是很小的，所以是很容易堵塞的，而我們的蝕刻液沉淀物和腐蝕下來的殘渣都是顆粒狀的，使用的時間過長了這些固體顆粒物的形成就會堵塞噴頭，所以我們需要定期的清理蝕刻機的噴頭才能達到良好的腐蝕效果。

離子植入：其是用來控制半導體中雜質(zhì)量的關(guān)鍵程序，對半導體表面附近區(qū)域進行摻雜技術(shù)。優(yōu)點在于雜質(zhì)量的控制，雜質(zhì)分布的再重整，及低溫下操作。    離子植入機主要的供廠商為AMAT，中國部份只有中電科電子裝備公司能供應(yīng)。市場預計今明兩年中國離子植入機需求可達5億美元與7億美元。    沉積：PVD沉積為一種物理制程，此技術(shù)一般使用等惰性氣體，藉由在高真空中將離子以加速撞擊濺鍍靶材后，將靶材原子一個個濺擊出來，使被濺擊出來的材質(zhì)沉積在晶圓表面。    薄膜沉積設(shè)備主要的供應(yīng)商包含應(yīng)用材料、Vaportech、LamResearch、ASM、Tokki等。而中國相關(guān)設(shè)備制造廠有北方華創(chuàng)、沈陽拓荊等。北方華創(chuàng)是中國薄膜沉積設(shè)備龍頭，目前技術(shù)已達到14nm。市場預計今明兩年中國薄膜沉積設(shè)備需求可達15億美元與20億美元。    測試：在晶圓完成制造之前，會有一道晶圓中測工序。在測試過程中，會檢測每一個芯片的電路功能。




在古時從事腐蝕加工的技師，不像我們今天這樣有很多的方法將圖文轉(zhuǎn)移到需要腐蝕的金屬表面。早的方法可能是采用一些石蠟、松香、瀝青等，也可能采用、桐油等天然有機材料。據(jù)記載到了16世紀時專門從事腐蝕加工的工匠們，要耐心地耗時數(shù)周甚至數(shù)月的時間，將這些材料按某種比例搗碎，再用液體瀝青或桐油調(diào)合，也可能是直接加溫熔化而制成保護涂料。然后用刷子仔細地把保護涂料涂抹在需要腐蝕的整個零件表面，經(jīng)午燥或冷卻硬化后;再用針或之類的硬物在保護層上把圖案制作出來，接下來就是用原始的方法進行腐蝕加工。我們可以想象，他們是怎樣地在腐蝕部位周圍用石蠟等天然常溫固態(tài)樹脂筑起屏障，然后將酸液慢慢地加到需要腐蝕的部位上。我們可以估計到這些專門從事腐蝕的工匠們會遇到的各種困難，比如:防蝕層的粘著力不夠，在還沒有達到腐蝕深度要求時，防蝕層就可能全部或部分脫落，這時就需要用手工來拋光以去掉所有的腐蝕斑痕;用石蠟等天然樹脂所筑起的防蝕墻并不能很好地防止酸的外溢，使零件的外緣或其他部位遭到腐蝕，而這些零件在進行腐蝕之前就已經(jīng)加工完成，同時已具有昂貴的價值，并由此而承擔極大的風險。隨著其他輔助技術(shù)和有機材料的發(fā)展，可以用非金屬材料制作成大的容器，同時也逐漸掌握了使用防蝕涂料對零件其他部位的保護，這時就可以直接將零件浸人一足可。

以不銹鋼US304的腐蝕加工為主

　　蝕刻機里添加化學蝕刻液為：三氯化鐵

　　化學式：FeCl3=FeCl3·6H2O

　　一.蝕刻液條件

　　波美度： 38°—42°

　　藥液溫度： 45°—50°

　　PH值測量區(qū)間： 1PH-3PH

　　氧化劑 FeCl3

　　二.新反應(yīng)過程

　　三氯化鐵蝕刻液對不銹鋼的蝕刻是一個“氧化---還原”過程：

　　1.氧化反應(yīng)：2FeCl3 Fe=3FeCl2

　　三氯化鐵 不銹鋼 水=氯化亞鐵 板材蝕刻成品 水 不銹鋼雜質(zhì)