磁控濺射法定義是什么？

磁控濺射法是在高真空充入適量的Ar，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁） 之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，使Ar發(fā)生電離。Ar離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。

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磁控濺射鍍膜機(jī)

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目前國內(nèi)窗膜行業(yè)的批發(fā)商及終端店很多人都吃過磁控鍍銀膜氧化的虧，產(chǎn)品賣出后幾個月，開始大面積氧化，需要賠償，甚至還失去了客戶。特別是NSN系列在13、14年出的問題特別多，搞得很多人談磁控膜色變的地步。而在15、16年后，問題得到解決。慢慢地就沒多少氧化問題出現(xiàn)了。這也讓很多剛接觸磁控膜的人以為磁控膜都是鍍銀的膜，一說磁控膜就問會不會氧化。其實大可不必?fù)?dān)心，大部分的側(cè)檔都不是銀的，請放心使用。且這兩年的技術(shù)進(jìn)步，國內(nèi)各磁控工廠也找到了解決氧化的方法。其實在玻璃鍍膜行業(yè)，早就解決了氧化問題，我記得早期的low-e玻璃在鍍膜后必須在24小時內(nèi)合成中空，不然就會氧化。當(dāng)時low-e與中空都是鍍膜廠做的，下邊玻璃加工廠根本無法介入，而現(xiàn)在鍍膜廠只需生產(chǎn)玻璃鍍膜原片。由于鍍膜室為立式容器，所以它具有臥式鍍膜機(jī)的一切優(yōu)點，又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡，更可方便地實現(xiàn)自動生產(chǎn)線，是替代傳統(tǒng)濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設(shè)備。且玻璃原片爆露在空氣中可達(dá)6個月以上，都不會氧化。這樣中空玻璃，一些門窗廠，幕墻公司、小規(guī)模的玻璃深加工工廠，都可以生產(chǎn)low-e中空玻璃了，加上政府政策的支持與引導(dǎo)，大大的加快了low-e玻璃的發(fā)展與普及。做窗膜磁控濺射鍍膜的應(yīng)多去看看玻璃行業(yè)的low-e鍍膜，多些交流。畢竟生產(chǎn)原理是一樣的東西，技術(shù)是相通的。很多東西是可以套用的，low-e鍍膜得到了規(guī)?；陌l(fā)展，技術(shù)工藝已非常成熟了。窗膜磁控濺射鍍膜終是要與玻璃配套的，如何與玻璃上直接鍍膜做差異化發(fā)展，才是正道。就目前來說，僅從隔熱性能、保溫性能上與玻璃對抗，是不可能有成本上優(yōu)勢的。但都是鍍膜，如何做差異化，我目前也只是拋磚引玉，只有大家一起開動腦袋了。

淺析磁控濺射鍍膜儀鍍膜優(yōu)勢

我們知道每一種鍍膜方式的不同都有不一樣的差異，這處理根據(jù)鍍膜的方式不同之外，還跟所鍍的材料有關(guān)系，這種差別我們很難看出來，因為根據(jù)目前的鍍膜行業(yè)中的一些gao端設(shè)備，比如說磁控濺射鍍膜儀，都是屬于比較精細(xì)的一種鍍膜機(jī)械。

那么在現(xiàn)今的發(fā)達(dá)科技中，磁控濺射鍍膜儀鍍膜有哪些優(yōu)勢呢？下面小編來深入的分析一下：

磁控濺射鍍膜設(shè)備所鍍的膜穩(wěn)定性好，這是因為其膜不僅厚，而且所生成的時候非常穩(wěn)定，另外還根據(jù)濺射電流來控制。我們知道電流越大，這種設(shè)備的濺射率也就相對的變大，這也是磁控濺射鍍膜設(shè)備非常穩(wěn)定的一個因素。

另外采用磁控濺射鍍膜設(shè)備來生成膜層，不管鍍多少次膜，他所鍍出來的膜厚度基本上是一樣的，而且非常穩(wěn)定。

從上述淺析中，我們不難發(fā)現(xiàn)磁控濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)勢，其實就是在于穩(wěn)定，這也是目前一些精細(xì)產(chǎn)品鍍膜選擇這種設(shè)備的原因。

磁控濺射法的優(yōu)勢

目前常用的制備CoPt 磁性薄膜的方法是磁控濺射法。磁控濺射法是在高真空充入適量的ya氣，在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，使ya氣發(fā)生電離。ya離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。通過更換不同材質(zhì)的靶和控制不同的濺射時間，便可以獲得不同材質(zhì)和不同厚度的薄膜。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結(jié)合力強、鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點。

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