真空鍍膜機濺射工藝

真空鍍膜機濺射工藝主要用于真空鍍膜機濺射刻蝕和薄膜沉積兩個方面。濺射刻蝕時，被刻蝕的材料置于靶極位置，受Ar離子的轟擊進行刻蝕。刻蝕速率與靶極材料的濺射產額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關。真空鍍膜機濺射刻蝕時，應盡可能從真空鍍膜機濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應氣體，使之與濺出的靶極原子反應生成揮發(fā)性氣體，通過真空系統(tǒng)從濺射室中排出。沉積薄膜時，濺射源置于靶極，受Ar離子轟擊后發(fā)生濺射。如果靶材是單質的，則在襯底上生成靶極物質的單質薄膜；若在濺射室內有意識地引入反應氣體，使之與濺出的靶材原子發(fā)生化學反應而淀積于襯底，便可形成靶極材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進行濺射而得。在濺射中，濺出的原子是與具有數千電子伏的高能離子交換能量后飛濺出來的，其能量較高，往往比蒸發(fā)原子高出1～2個數量級，因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸發(fā)為佳。

若在濺射時襯底加適當的偏壓，可以兼顧襯底的清潔處理，這對生成薄膜的臺階覆蓋也有好處。另外，用真空鍍膜機濺射法可以制備不能用蒸發(fā)工藝制備的高熔點、低蒸氣壓物質膜，便于制備化合物或合金的薄膜。濺射主要有離子束濺射和等離子體濺射兩種方法。離子束濺射裝置中，由離子槍提供一定能量的定向離子束轟擊靶極產生濺射。離子槍可以兼作襯底的清潔處理和對靶極的濺射。為避免在絕緣的固體表面產生電荷堆積，可采用荷能中性束的濺射。中性束是荷能正離子在脫離離子槍之前由電子中和所致。離子束濺射廣泛應用于表面分析儀器中，對樣品進行清潔處理或剝層處理。由于束斑大小有限，用于大面積襯底的快速薄膜淀積尚有困難。等離子體真空鍍膜機濺射也稱輝光放電濺射。產生濺射所需的正離子來源于輝光放電中的等離子區(qū)。靶極表面必須是一個高的負電位，正離子被此電場加速后獲得動能轟擊靶極產生濺射，同時不可避免地發(fā)生電子對襯底的轟擊。

鍍膜機能鍍出不同顏色的不銹鋼產品嗎

不同的顏色，用不同的工藝和不同的耙材，比如常見的槍色，我們一般選擇用鈦耙或者鉻耙，鈦耙做出來的顏色老，鉻耙做出來的顏色嫩，黑色的我們一般用鈦柱耙或者鉻柱耙。

如果膜層出來掉色的現象，個分析工藝是否正確，第二個分析前處理清洗是否徹底，純水值是否達到標準要求，第三個分析真空爐是否有泄漏。原因大概就這三個。如果顏色出現變色，分析掛具的產品是否在有效的濺射范圍內，第二分析工藝是否應該調整。

退鍍這一塊也是根據不同的工藝，偏壓的大小，不同的耙材所鍍的顏色來分析應該如何來正確的退鍍，用鈦耙鍍出來的顏色。

臥式蒸發(fā)真空鍍膜設備

該設備結構合理、膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作周期短、生產、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光環(huán)、化妝品、玩具等行業(yè)。

臥式蒸發(fā)真空鍍膜設備具有：結構合理、膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作周期短、生產、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光環(huán)、化妝品、玩具等行業(yè)。

鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全?。⒐に囯婂?、拉絲、雨滴、七彩等等。

至成鍍膜機廠家可以根據用戶要求設計各種規(guī)格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統(tǒng)也可根據用戶要求進行設計配置。