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發(fā)布時間:2021-10-21 11:51  
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真空鍍膜設(shè)備檢漏環(huán)節(jié),你都會了嗎?
新人來公司報道,前期都要進(jìn)行嚴(yán)格的真空鍍膜設(shè)備撿漏培訓(xùn),后期還要經(jīng)過公司傳幫帶的方式來幫助新人快速成長,為什么公司對撿漏培訓(xùn)如此重視和嚴(yán)格,下面小編為大家講解真空鍍膜設(shè)備撿漏的重要性:真空鍍膜設(shè)備檢漏是保證真空鍍膜設(shè)備真空度的一項檢查措施,簡稱檢漏,真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的,如果撿漏有紕漏,必然會造成或大或小的損失,由此得不償失,所以機器在運作過程中檢漏環(huán)節(jié)是必不可少的。經(jīng)驗豐富的技術(shù)人員都知道,撿漏產(chǎn)生的原因一般都是真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的連接位細(xì)縫中產(chǎn)生,當(dāng)抽氣系統(tǒng)抽氣后使真空室內(nèi)壓強下降,外部與內(nèi)部的壓強差使氣體從壓強高的外部流向壓強低的真空室內(nèi),造成真空度下降。
真空卷繞鍍膜機
的卷繞系統(tǒng)采用四電機驅(qū)動,恒張力控制,可實現(xiàn)距離卷繞和接觸卷繞兩種卷繞方式。提供了多種不同的卷繞方式,以適用于所鍍制的薄膜種類和工藝要求。在卷繞系統(tǒng)中設(shè)置了適用于CPP、PET、OPP等多種塑料薄膜特殊的展平裝置,能達(dá)到無褶皺、無劃傷、無邊緣積聚的優(yōu)良蒸鍍和收卷質(zhì)量。強勁實用的抽真空系統(tǒng)相對獨立的卷繞室和蒸發(fā)室,每一個室都有一套獨立的真空泵組與其對應(yīng)。能在很短的時間內(nèi)達(dá)到鍍膜所需的工作真空度,使設(shè)備的生產(chǎn)率得到很大地提高。蒸發(fā)源系統(tǒng)通過嚴(yán)密的計算采取恰當(dāng)?shù)恼舭l(fā)距離和舟間距,采取交錯安裝的排布形式,使用兩端頂持的舟安裝方式保證了良好的蒸鍍均勻性的成膜質(zhì)量。可以使用普通蒸發(fā)速率的陶瓷蒸發(fā)舟,也可以使用高蒸發(fā)率的蒸發(fā)舟。其功率可達(dá)14KVA,蒸發(fā)速率可達(dá)9克/分鐘。冷卻加熱系統(tǒng):蒸鍍輥配制有獨立的冷卻加熱系統(tǒng),采用特殊的油導(dǎo)熱介質(zhì),能有效的冷卻蒸鍍輥,防止薄膜熱損傷。等離子預(yù)處理裝置:在鍍前對薄膜表面進(jìn)行離子轟擊處理,除去薄膜表面吸附的水氣及雜質(zhì),提高附著力,改善鍍膜質(zhì)量。簡單便捷的控制系統(tǒng):便捷的全自動控制系統(tǒng)和友好的操作界面,可根據(jù)需要分別采用手動、半自動以及自動方式。
真空鍍中對底涂層的要求:
①對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力,熱膨脹系數(shù)相差小,不起反應(yīng),流平性能好。②具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應(yīng)力小、耐熱性能好。③成膜性能好,涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。④與面涂層有良好的相溶性。由于鍍膜層極薄有孔隙,要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。⑤施涂性能良好。流平性能良好,有適當(dāng)?shù)酿ざ?、固化時間短。 真空鍍對面涂層的要求:①與鍍膜層要有良好的接觸性能;②與底涂層要有一定的相溶性;③成膜性能與施涂性能優(yōu)良;具有適當(dāng)?shù)臋C械強度;④防潮、抗溶劑、耐腐蝕性能好。抗老化性能強。由于產(chǎn)品的特殊需要,在面涂層上還可進(jìn)一步施涂超硬涂層或彩色涂層等。

真空鍍膜機蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能
嚴(yán)格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的,因為Al膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能,從而影響半導(dǎo)體器件的可靠性。對于高反壓功率管來說,它的工作電壓高,電流大,沒有一定厚度的金屬膜會造成成單位面積Al膜上電流密度過高,易燒毀。對于一般的半導(dǎo)體器件,Al層偏薄,則膜的連續(xù)性較差,呈島狀或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),引起壓焊引線困難,造成不易壓焊或壓焊不牢,從而影響成品率;Al層過厚,引起光刻時圖形看不清,造成腐蝕困難而且易產(chǎn)生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。 采用真空鍍膜機電子束蒸發(fā),行星機構(gòu)在沉積薄膜時均勻轉(zhuǎn)動,各個基片在沉積Al膜時的幾率均等;行星機構(gòu)的聚焦點在坩堝蒸發(fā)源處,各個基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機磁控濺射鍍膜方法,由于沉積電流和靶電壓可以控制,也即是濺射功率可以調(diào)節(jié)并控制,因此膜厚的可控性和重復(fù)性較好,并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。
