超純水設(shè)備的主要用途：

1、電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗，如手機(jī)、電腦、平板等電子設(shè)備在生產(chǎn)過程中清洗水。

2、超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗。

3、電池產(chǎn)品的生產(chǎn)，電池在生產(chǎn)過程中部分工序需要用到的水。

4、電路板的生產(chǎn)和清洗，電腦、手機(jī)中的電路板在生產(chǎn)和清洗過程中所需要的水。

5、半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗。

6、其他高科技精細(xì)產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗。

請問超純水和去離子水是不是一回事？

用途不同

　　超純水的用途：

　　電子、電力、電鍍、照明電器、實(shí)驗(yàn)室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗(yàn)、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃、化工工藝用水、化學(xué)藥劑、化妝品、單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件、高壓變電器的清洗等。當(dāng)原水通過離子交換柱時(shí)，水中的陽離子和水中的陰離子(HCO3-等離子體)與交換柱中正樹脂的H 離子和陰離子樹脂的OH-離子進(jìn)行交換，從而達(dá)到脫鹽的目的。

　　去離子水的用途：

　　實(shí)驗(yàn)室、化驗(yàn)室用水，一般實(shí)驗(yàn)室的常規(guī)試驗(yàn)、配置常備溶液、清洗玻璃器皿等；電子工業(yè)生產(chǎn)，如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計(jì)算機(jī)硬盤、集成電路芯片、單晶硅半導(dǎo)體等；電力鍋爐，鍋爐所需軟化水、除鹽；

超純水設(shè)備中反滲透膜重度污染的特征及離線清洗

反滲透膜元件的離線清洗方法及步驟1)首先用性能良好的備用膜元件替換反滲透系統(tǒng)上需要清洗的膜元件，以保證反滲透系統(tǒng)不停止運(yùn)行，保證生產(chǎn)過程連續(xù)穩(wěn)定。2)反滲透膜元件性能測試(這一步尤為重要):對(duì)每個(gè)膜元件分別進(jìn)行性能指標(biāo)測試，包括:脫鹽率、產(chǎn)水率、壓差、重量等，并做好預(yù)測試記錄。海水淡化率、產(chǎn)水率、壓差試驗(yàn)條件:符合不同類型膜廠家提供的標(biāo)準(zhǔn)。3) 系統(tǒng)清洗前了解系統(tǒng)目前運(yùn)行狀況；4) 采集運(yùn)行反滲透系統(tǒng)的各參數(shù)指標(biāo)，作好原始記錄；5) 根據(jù)用戶原水全分析報(bào)告、性能測試結(jié)果及所了解的系統(tǒng)信息判斷清洗流程；6) 污染物的鑒定。首先根據(jù)5）的分析結(jié)果初步判定，再通過特殊的設(shè)備、器具作進(jìn)一步的驗(yàn)證，以確定具體污染物類型。2、二氧化硅沉淀二氧化硅的溶解度受許多因素的影響，如溫度和PH值，且很大的二氧化硅溶解度通常為150mg/L，而許多原水中二氧化硅的含量超過20mg/L。