電子束鍍膜與電阻鍍膜的區(qū)別

電子束蒸鍍與利用電阻進行蒸鍍的優(yōu)勢在于：可以為待蒸發(fā)的物質提供更高的熱量，因此蒸鍍的速率也更快；電子束定位準確，可以避免坩堝材料的蒸發(fā)和污染。但是由于蒸鍍過程中需要持續(xù)水冷，對能量的利用率不高；而且由于高能電子可能帶來的二次電子可能使殘余的氣體分子電離，也有可能帶來污染。電子束鍍膜與電阻鍍膜的區(qū)別電子束蒸鍍與利用電阻進行蒸鍍的優(yōu)勢在于：可以為待蒸發(fā)的物質提供更高的熱量，因此蒸鍍的速率也更快。此外，大多數(shù)的化合物薄膜在被高能電子轟擊時會發(fā)生分解，這影響了薄膜的成分和結構 。

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電子束蒸鍍系統(tǒng)的特點

* 渦輪分子泵，串接機械泵或干泵

* pocket電子槍

* 電子束源和基片遮板

* 性能好的開關電源，杰出的消弧性能

* 自動Pocket索引以及可編程的掃描控制器

* 膜厚監(jiān)測，可設置目標膜厚作為工藝終點條件

* 旋轉樣品臺，提供高均勻性

* 帶觀察視窗的腔門，便于放片/取片

* PC全自動控制，具有高度的可重復性

* Labview軟件的計算機全自動工藝控制控

* 多級密碼保護的授權訪問設計

* EMO保護以及完全的安全聯(lián)鎖

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電子束鍍膜機介紹

* 帶旋轉的傾斜沉積

* 行星式基片夾具

* 基片RF/DC偏壓

* 基片清洗的離子源以及離子輔助蒸鍍

* 附加物理沉積源（熱蒸鍍，磁控濺射）

* 用于反應蒸鍍的MFC

* 不同的泵組選擇，可升級分子泵為冷泵，前級泵為干泵

* 進樣室和自動上下片/可支持單片和25片片夾

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