基于氮化鈦優(yōu)良的導(dǎo)電性能，可做成各種電極以及點(diǎn)觸頭等材料。

（9）氮化鈦的超導(dǎo)臨界溫度較高，可作為優(yōu)良的超導(dǎo)材料。

（10）氮化鈦的熔點(diǎn)高于大多數(shù)過渡金屬氮化物，密度低于大多數(shù)金屬氮化物，從而成為一種獨(dú)特的耐火材料。

氮化鈦可以作為一種膜鍍?cè)诓Ａ?，在紅外線反射率大于75%的情況下，當(dāng)?shù)伇∧ず穸却笥?0nm時(shí)，能有效提高玻璃的保溫性能。另外，調(diào)整氮化鈦中氮元素的百分含量，可以改變氮化鈦薄膜的顏色，從而達(dá)到理想的美觀效果。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內(nèi)，大多數(shù)金屬的反射率都可達(dá)到78%~98%，但不可高于98%。無論是對(duì)于CO2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡，采用鍺、chen化jia、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學(xué)元件材料，還是對(duì)于YAG激光采用普通光學(xué)玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學(xué)元件材料，都不能達(dá)到全反射鏡的99%以上要求。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

通過濺射工藝涂覆薄膜有幾個(gè)特點(diǎn)：金屬，合金或絕緣體可以制成薄膜材料。相同組成的薄膜可以在適當(dāng)?shù)脑O(shè)置條件下由多個(gè)復(fù)雜的靶材制成。通過在放電氣氛中添加氧氣或其他活性氣體，可以生產(chǎn)目標(biāo)材料和氣體分子的混合物或化合物。可以控制目標(biāo)輸入電流和濺射時(shí)間，并且容易獲得高精度的膜厚。與其他工藝相比，有利于生產(chǎn)大面積的均勻薄膜。濺射的粒子不受重力影響，并且靶和基板的位置可以自由地布置。基材與薄膜之間的粘合強(qiáng)度是普通氣相沉積薄膜的10倍以上，并且由于濺射的粒子具有高能量，因此表面將繼續(xù)在成膜表面上擴(kuò)散以獲得堅(jiān)硬而致密的表面電影。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制