真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的不足，且各項技術指標都優(yōu)于傳統(tǒng)工藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比，在技術上有哪些創(chuàng)新？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復利用，大大降低了成本。

2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時不經(jīng)任何處理。

3、多弧離子鍍膜無污染，無毒無味，無三廢排放，屬國家環(huán)保產(chǎn)品技術。

4、多弧離子鍍膜好處理、使用方便；形狀復雜的金屬基件都能處理。

5、多弧離子鍍膜硬度大，硬度增強、催化液泡過的金屬基件硬度是多弧離子鍍膜工藝的幾倍。

6、多弧離子鍍膜不會生銹，催化液浸泡過的金屬基件已滲透表皮里面，不起皮、不脫落。

真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點是怎樣的?

真空鍍膜機離子鍍技術市場使用占比率非常高，鍍餐具，鍍家居，鍍飾品等都離不開離子鍍膜技術，離子鍍膜技術不僅僅在國內(nèi)受追捧，國外也是一樣受喜愛。那么，真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點是怎樣的？下面至成小編為大家詳細介紹一下：

離子鍍是結(jié)合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發(fā)展起來的沉積技術。在真空條件下，采用適當?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構(gòu)成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質(zhì)廣、沉積速率快等優(yōu)點。

PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟及原理

廠家在采購PVD真空鍍膜機時，商家都會培訓PVD真空鍍膜機的相關知識，如鍍膜技術工藝步驟、原理、保養(yǎng)維護方法，機器的運行注意事項等等，今天至成小編為大家介紹一下PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟和原理。

PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟，分為以下四個步驟：

（1）清洗工件：接通直流電源，Ar氣進行輝光放電為Ar離子，Ar離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

（2）鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。

（3）鍍料離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞以及高壓電場后，高速沖向工件；

（4）鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

如果是鍍離子鍍時，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能，高速轟擊工件時，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。

新型磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝

磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝在鍍膜行業(yè)無處不在，只要說到鍍膜技術，大家都會立刻想到磁控鍍膜工藝，磁控濺射真空鍍膜機也受到了各大廠家的追捧，磁控濺射鍍膜工藝更是受到大家的喜愛，今天至成小編為大家介紹一下磁控濺射鍍膜機鍍膜工藝。

其實從一般的金屬靶材濺射、反應濺射、偏壓濺射等,伴隨著工業(yè)需求及新型磁控濺射技術的出現(xiàn),低壓濺射、高速沉積、自支撐濺射沉積、多重表面工程以及脈沖濺射等新型工藝成為目前該領域的發(fā)展趨勢。低壓濺射的關鍵問題是在低壓(一般是指<011Pa)下,電子與氣體原子的碰撞幾率降低,在常規(guī)磁控濺射技術中不足以維持靶材表面的輝光放電,導致濺射沉積無法繼續(xù)進行。通過優(yōu)化磁場設計,使得電子空間運動距離延長,非平衡磁控濺射技術可以實現(xiàn)在10-2Pa等級的真空下進行濺射沉積。另外,通過外加電磁場約束電子運動可以實現(xiàn)更低壓強下的濺射沉積。進行高速沉積可以極大的提高工作效率、減少工作氣體消耗以及獲得新型膜層。實現(xiàn)高速沉積主要需要解決的問題是在提高靶材電流密度的同時,不會產(chǎn)生弧光放電;由于功率密度的提高,靶材、襯底的冷卻能力需要相應提高等。目前,已經(jīng)實現(xiàn)了靶材功率密度超過100W/cm2,沉積速率超過1μm/min。