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光譜膜厚儀產(chǎn)品介紹【一六儀器】

發(fā)布時(shí)間:2021-01-14 13:15  

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一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

用轉(zhuǎn)移法測(cè)量塑膠產(chǎn)品上涂層時(shí)注意事項(xiàng):

由于對(duì)塑膠產(chǎn)品上涂層的測(cè)量,如使用超聲波發(fā)測(cè)量時(shí),經(jīng)常因涂層與基材發(fā)生相溶而沒(méi)有較好的聲波反射面,從而導(dǎo)致測(cè)量失敗或讀值嚴(yán)重偏差。如使用切鍥法,也多有使用不方便和讀數(shù)困難的地方。所以目前便攜式電子產(chǎn)品生產(chǎn)廠普遍使用轉(zhuǎn)移法測(cè)量塑膠產(chǎn)品上涂層,先在產(chǎn)品上蓋若干小條標(biāo)準(zhǔn)厚度的聚酯薄膜,再用紙基美紋膠壓住兩頭,留出中間部分。江蘇一六儀器X射線熒光鍍層測(cè)厚儀儀器簡(jiǎn)介XTU系列測(cè)厚儀雖然結(jié)構(gòu)緊湊,但是都有大容量的開(kāi)槽設(shè)計(jì)樣品腔,即使超過(guò)樣品腔尺寸的工件也可以測(cè)試。將該產(chǎn)品放入噴涂線上正常噴涂、烘烤。


一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆積的1~104的原子層或分子層。在此方向上,薄膜具有微觀結(jié)構(gòu)。

     理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離。由于薄膜僅在厚度方向是微觀的,其他的兩維方向具有宏觀大小。所以,表示薄膜的形狀,一定要用宏觀方法,即采用長(zhǎng)、寬、厚的方法。因此,膜厚既是一個(gè)宏觀概念,又是微觀上的實(shí)體線度。

      由于實(shí)際上存在的表面是不平整和連續(xù)的,而且薄膜內(nèi)部還可能存在著、雜質(zhì)、晶格缺陷和表面吸附分子等,所以,要嚴(yán)格地定義和測(cè)量薄膜的厚度實(shí)際上是比較困難的。膜厚的定義應(yīng)根據(jù)測(cè)量的方法和目的來(lái)決定。  

經(jīng)典模型認(rèn)為物質(zhì)的表面并不是一個(gè)抽象的幾何概念,而是由剛性球的原子(分子)緊密排列而成,是實(shí)際存在的一個(gè)物理概念。

形狀膜厚:dT是接近于直觀形式的膜厚,通常以u(píng)m為單位。dT只與表面原子(分子)有關(guān),并且包含著薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響;

質(zhì)量膜厚:dM反映了薄膜中包含物質(zhì)的多少,通常以μg/cm2為單位,它消除了薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響(如缺陷、、變形等);

物性膜厚:dP在實(shí)際使用上較有用,而且比較容易測(cè)量,它與薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外部結(jié)構(gòu)無(wú)直接關(guān)系,主要取決于薄膜的性質(zhì)(如電阻率、透射率等)。


江蘇一六儀器 XTU系列 XTU-BL X熒光光譜儀

儀器規(guī)格:

   外形尺寸 :550 mm x 660mm x 470 mm (長(zhǎng)x寬x高)

   樣品倉(cāng)尺寸 :500mm×660 mm ×215mm (長(zhǎng)x寬x高)

   儀器重量 :55kg

   供電電源 :交流220±5V

   功率 :330W

   環(huán)境溫度:15℃-30℃

   環(huán)境相對(duì)濕度:<70%

EDX是借助于分析試樣發(fā)出的元素特征X射線波長(zhǎng)和強(qiáng)度實(shí)現(xiàn)的, 根據(jù)不同元素特征X射線波長(zhǎng)的不同來(lái)測(cè)定試樣所含的元素。通過(guò)對(duì)比不同元素譜線的強(qiáng)度可以測(cè)定試樣中元素的含量。通常EDX結(jié)合電子顯微鏡使用,可以對(duì)樣品進(jìn)行微區(qū)成分分析。

常用的EDX探測(cè)器是硅滲鋰探測(cè)器。當(dāng)特征X射線光子進(jìn)入硅滲鋰探測(cè)器后便將硅原子電離,產(chǎn)生若干電子-空穴對(duì),其數(shù)量與光子的能量成正比。利用偏壓收集這些電子空穴對(duì),經(jīng)過(guò)一系列轉(zhuǎn)換器以后變成電壓脈沖供給多脈沖高度分析器,并計(jì)數(shù)能譜中每個(gè)能帶的脈沖數(shù)。江蘇一六儀器X射線熒光光譜測(cè)厚儀產(chǎn)品配置X光金屬鍍層測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)配置為:X射線管,正比計(jì)數(shù)器﹨半導(dǎo)體探測(cè)器,高清攝像頭,高度激光,信號(hào)檢測(cè)電子電路。

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   江蘇一六儀器  X熒光測(cè)厚儀測(cè)試要求:

工作要求:

1 環(huán)境溫度要求:15℃-30℃

2 環(huán)境相對(duì)濕度:<70%

3 工作電源:交流220±5V

4 周圍不能有強(qiáng)電磁干擾。

5 Max功率 :330W

6 外形尺寸 :550 mm x 480mm x 470 mm (長(zhǎng)x寬x高)

7 樣品倉(cāng)尺寸 :500mm×360 mm ×215mm (長(zhǎng)x寬x高)

8 儀器重量 :55kg

9 分析軟件EFP,可同時(shí)分析23層鍍層,24種元素,不同層有相同元素也可分析

10 軟件操作人性化封閉軟件,自動(dòng)提示校正和步驟,避免操作錯(cuò)誤

11 X射線裝置:W靶微聚焦加強(qiáng)型射線管