EDI超純水處理設(shè)備簡介

EDI超純水設(shè)備簡介 　　EDI超純水處理設(shè)備即電去離子系統(tǒng)，電滲析膜分離技術(shù)與離子交換技術(shù)有機地結(jié)合起來的一種新的制備超純水（高純水）的技術(shù)，它利用電滲析過程中的極化現(xiàn)象對填充在淡水室中的離子交換樹脂進(jìn)行電化學(xué)再生。該設(shè)備主要是在直流電場的作用下，通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動，利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質(zhì)進(jìn)行提純。

EDI膜塊被污染堵塞可以從以下幾個方面進(jìn)行評估

通常判斷 EDI 膜塊被污染堵塞可以從以下幾個方面進(jìn)行評估判定： 1、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，進(jìn)水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高 45%。 2、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，濃水進(jìn)水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。 3、在進(jìn)水溫度、流量及電導(dǎo)率不變的情況下，產(chǎn)水水質(zhì)（電阻率）明顯下降。 4、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，濃水排水流量下降35%。 膜塊堵塞的原因主要有下面幾種形式： 1、顆粒/膠體污堵 2、無機物污堵 3、有機物污堵 4、微生物污堵 EDI 清洗注意：在清洗或消毒之前請先選擇合適的化學(xué)藥劑并熟悉安全操作規(guī)程，切不可在組件電源沒有切斷的狀態(tài)下進(jìn)行化學(xué)清洗。

高純水設(shè)備性能優(yōu)勢可連續(xù),穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水

高純水設(shè)備性能優(yōu)勢 可連續(xù)，穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水，無需因樹脂再生而停機。 無污染物排放，既環(huán)保又省去了廢液處理的投資。 設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，節(jié)省空間，同時還具有節(jié)能優(yōu)點。 日常保養(yǎng)，操作簡單，勞動強度低。 主要應(yīng)用行業(yè) 廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實驗室,也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補給水，以及其它應(yīng)用高純水。