由于鎂合金微弧陶瓷復(fù)合處理技術(shù)繼承了微弧氧化工藝的普遍優(yōu)點(diǎn)，無需對(duì)工件進(jìn)行復(fù)雜的前處理，大大減少了污水排放，而且處理過程中無環(huán)保限制元素加入，實(shí)現(xiàn)了對(duì)環(huán)境的零污染。另微弧復(fù)合處理周期短，生產(chǎn)及日常維護(hù)成本低廉，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制生產(chǎn)，生產(chǎn)并且極大節(jié)約了人力資源成本，使其規(guī)模化裝備制造業(yè)已無后顧之憂。又與電鍍硬鉻和重（或硬）陽(yáng)極氧化等依靠消耗溶液中溶質(zhì)元素在被處理樣品表面形成保護(hù)膜層的工藝不同，微弧氧化處理主要在鋁、鎂等輕合金表面生成金屬自身氧化物的陶瓷層，理論上屬不消耗溶質(zhì)元素的處理工藝。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化工藝

     微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)

（1）氧化膜具有陶瓷結(jié)構(gòu)特征。

（2）原位生長(zhǎng)。

（3）氧化膜均勻增厚。

（4）無污染：無環(huán)保限制元素加入，基本無廢水排放。

          制備工藝簡(jiǎn)單。

（5）表面硬度高，顯微硬度在400至1500HV；

（6）耐磨損性能與硬質(zhì)合金相當(dāng)；

（7）耐腐蝕性能：鹽霧試驗(yàn)鋁合金1000－2000小時(shí) ；鎂

        合金經(jīng)封孔后耐鹽霧可達(dá)1000小時(shí)以上。

（8）耐熱性能：300℃水中淬火35次未見變化，1300℃

         沖擊5次不脫落、不龜裂。

（9）絕緣性能：膜厚不同,表面電阻達(dá)  109－12Ω

微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化工藝

。微

微弧氧化膜層的性能能夠達(dá)到何種程度？

       一般來講，微弧氧化膜層是瞬間高溫下生成的內(nèi)部致密的陶瓷層，膜層均具有良好的膜基結(jié)合力、硬度、耐磨耐腐蝕特性、高的絕緣性及耐高溫氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工藝下制備的膜層性能也有差異。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因?yàn)閺纳晌飦砜矗趸X硬度及耐磨性均高于氧化鎂，鋁表面氧化膜硬度高可以達(dá)到HV3000。但是通常單純考慮這種極限性能并不可取，如單純提高膜層的硬度，可能需提高膜層厚度，降低膜基結(jié)合力，對(duì)膜層整體性能不利。因此，一般很少單獨(dú)強(qiáng)調(diào)某種性能。微弧氧化處理的輕金屬表面形成一層膜，具有很好的耐磨耐腐蝕的特性。只是如果有特殊要求，可以提出，整體加以調(diào)制，在滿足特殊需求的基礎(chǔ)上使膜層整體具有良好性能。如，某鎂合金需要耐蝕，可以根據(jù)需求對(duì)膜層厚度、溶液成分等進(jìn)行調(diào)制，滿足耐蝕400小時(shí)、600小時(shí)等特殊需求。