光學(xué)真空鍍膜設(shè)備該如何進行保養(yǎng)

光學(xué)真空鍍膜設(shè)備主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組限及電柜（控制電柜、電子槍電樞）組成，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。光學(xué)真空鍍膜設(shè)備在防止油污染和縮短工作周期等方面具有的性能。

光學(xué)真空鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?，材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成臘層。

真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎?

段時間有一個采購光學(xué)鍍膜機的客戶簽訂協(xié)議的時候，咨詢我這個問題，真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工有沒有什么需要注意的地方。在簽訂協(xié)議完成的后一個環(huán)節(jié)，我們的銷售培訓(xùn)了大量的設(shè)備相關(guān)的操作知識和注意事項，客戶也學(xué)到了不少相關(guān)的知識。今天至成真空小編也再次詳細和大家講解一下真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工上應(yīng)該注意的事項，加強大家的設(shè)備方面的知識和技能。

真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎？當(dāng)光線進入不同傳遞物質(zhì)時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學(xué)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%?，F(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個準鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質(zhì)的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對于單層薄膜來說，當(dāng)增透膜兩邊介質(zhì)不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數(shù)倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質(zhì)1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質(zhì)。一般光學(xué)透鏡都是在空氣中使用，對于一般折射率在1.5左右的光學(xué)玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k 1)倍四分之一個波長。單層膜只對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大范圍內(nèi)和更多波長實現(xiàn)增透，人們利用鍍多層膜來實現(xiàn)。

人們對增透膜的利用有了很多的經(jīng)驗，發(fā)現(xiàn)了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術(shù)，因此增透膜的應(yīng)用涉及醫(yī)學(xué)、軍事、太空探索等各行各業(yè)，為人類科技進步作出了重大貢獻。

多弧離子真空鍍膜機鍍膜技術(shù)

很多朋友問我關(guān)于多弧離子真空鍍膜機真空技術(shù)方面的問題，當(dāng)時給朋友解釋了很多，今天至成小編為大家詳細介紹一下：

多弧離子鍍是采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發(fā)金屬，蒸發(fā)物是從陰極弧光放電放出的陰極物質(zhì)的離子，這種裝置不需要熔池，被蒸發(fā)的靶材接陰極，真空室為陽極，當(dāng)觸發(fā)電極與陰極靶突然瞬間接觸時，就會引起電弧，在陰極表面產(chǎn)生強烈發(fā)光的陰極弧光斑點，斑點直徑在100?m以下，斑點內(nèi)的電流密度可達103~107A/cm2于是在這一區(qū)域內(nèi)的材料就瞬時蒸發(fā)并電離。陰極弧光斑點在陰極表面上，以每秒幾十米的速度做無規(guī)則運動，外加磁場用來控制輝點的運動軌跡和速度，為了維持真空電弧，一般要求電壓為–20到–40V。多弧離子鍍的原理是基于冷陰極真空弧光放電理論，該理論認為，放電過程的電量遷移是借助于場電子發(fā)射和正離子電流這兩種機制同時存在且相互制約而實現(xiàn)的。

在放電過程中，陰極材料大量蒸發(fā)，這些蒸汽分子產(chǎn)生的正離子，在陰極表面附近很短的距離內(nèi)產(chǎn)生極強的電場，在這樣強的電場作用下，電子以產(chǎn)生以場電子發(fā)射而溢出到真空中，而正離子可占總的電弧電流的10%左右，被吸到陰極表面的金屬離子形成空間電荷層，由此產(chǎn)生強電場，使陰極表面上功函數(shù)小的點(晶界或裂痕)開始發(fā)射電子。個別發(fā)射電子密度高的點，電流密度高。焦耳熱使溫度上升又產(chǎn)生熱電子，進一步增加發(fā)射電子。這個正反饋作用使電流局部集中。由于電流局部集中產(chǎn)生的焦耳熱使陰極材料表面局部爆發(fā)性地等離子化，發(fā)射電子和離子，并留下放電痕。同時也放出熔融的陰極材料粒子。發(fā)射的離子中的一部分被吸回陰極表面，形成空間電荷層，產(chǎn)生強電場，又使新的功函數(shù)小的點開始發(fā)射電子。

多弧離子真空鍍膜機的由來

我國在真空鍍膜行業(yè)，目前更多的應(yīng)用都集中在裝飾方面，對能有效地提高關(guān)鍵部件使用壽命機械功能薄膜的制備設(shè)備、工藝及應(yīng)用研究方面還遠遠落后于國外先進水平。同時，裝飾鍍方面也逐漸向耐磨和裝飾雙重功能的方向發(fā)展，之前的離子鍍膜機已體現(xiàn)出不能滿足裝飾鍍要求的問題。本技術(shù)的研發(fā)成功，將打破國內(nèi)機械功能耐磨減摩薄膜完全依靠國外技術(shù)的被動局面；對提高我國裝備制造業(yè)的技術(shù)水平和真空離子鍍的技術(shù)發(fā)展都是一個非常好的作用。另外，將制備的耐磨減摩薄膜應(yīng)用于其它關(guān)鍵部件中，起到了非常好的節(jié)約能源和提率的作用，可替代部分原來電鍍的工藝，對環(huán)境保護起到很好的作用。

目前，國際上機械功能硬質(zhì)薄膜（特別是刀具用膜層）大多采用陰極電弧沉積技術(shù)，但陰極電弧沉積存在的主要技術(shù)問題是所制備的膜層表面不夠光潔，有較多的顆粒，影響應(yīng)用性能；特別是國內(nèi)制造的陰極電弧沉積設(shè)備顆粒問題尤為嚴重。在此技術(shù)基礎(chǔ)上引入磁過濾技術(shù)，雖可解決表面沉積的顆粒問題，但沉積效率只有原來的1/10左右，并且沉積面積小，從而使生產(chǎn)周期長，制造成本高，不適合大批量鍍膜生產(chǎn)應(yīng)用。而磁控濺射技術(shù)所制備的膜層表面光潔、細膩，沉積速率適中，能均勻地大面積沉積薄膜。但磁控濺射技術(shù)也存在離化率低（一般在10％），所制備的膜層在硬度、耐磨性及結(jié)合力上不如陰極電弧技術(shù)所制備的膜層；在進行化學(xué)反應(yīng)性鍍膜（如TiN、TiO2）時，由于金屬粒子的離化率低、反應(yīng)活性差，必須過量通入反應(yīng)性氣體，造成磁控靶面的毒化（化學(xué)反應(yīng)），引起蒸發(fā)速率急劇降低等一系列雪崩式后果，使得磁控濺射反應(yīng)鍍膜存在著不穩(wěn)定性和不可控性。