公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶(hù)的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外，還廣泛的應(yīng)用與像LCD，PCB等方面。常見(jiàn)的光掩膜的種類(lèi)有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩個(gè)組成部分，基板和不透光材料。其圖形結(jié)構(gòu)可通過(guò)制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫(xiě)式光刻設(shè)備，如激光直寫(xiě)光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等?；逋ǔＪ歉呒兌龋头瓷渎?，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過(guò)濺射的方法鍍?cè)诓Ａ路胶窦s0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。

在刻畫(huà)時(shí)，采用步進(jìn)機(jī)刻畫(huà)(stepper)，其中有電子束和激光之分，激光束直接在涂有鉻層的4-9“ 玻璃板上刻畫(huà)，邊緣起點(diǎn)5mm，與電子束相比，其弧形更逼真，線寬與間距更小。有將鉛活字排成活字版，以及用活字版打成紙型現(xiàn)澆鑄成凸版和將圖像經(jīng)照像或電子分色獲得底片，用底片曬制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。光掩膜有掩膜原版(reticle mask，也有稱(chēng)為中間掩膜，reticle作為單位譯為光柵)，用步進(jìn)機(jī)重復(fù)將比例縮小到master maks上，應(yīng)用到實(shí)際曝光中的為工作掩膜(working mask)，工作掩膜由master mask復(fù)i制過(guò)來(lái)。

光刻掩膜版（又稱(chēng)光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱(chēng)掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。