真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 

真空鍍膜機(jī)工作的環(huán)境要求：       

真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，因此該設(shè)備要滿足真空對(duì)環(huán)境的要求。真空對(duì)環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。

真空鍍膜機(jī)工藝在光學(xué)儀器中的運(yùn)用大家了解的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀，以及平時(shí)生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開(kāi)鍍膜技能，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

鍍膜機(jī)工藝在集成電路制造中的運(yùn)用，鍍膜機(jī)晶體管路中的保護(hù)層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶硅、銅及其合金）等多是選用CVD技能、PVCD技能、真空蒸騰金屬技能、磁控濺射技能和射頻濺射技能。可見(jiàn)氣相堆積術(shù)制備集成電路的核心技能之一。

物理氣相沉積（PVD）是一項(xiàng)眾所周知的技術(shù)，廣泛應(yīng)用于薄膜沉積，涉及許多方面，包括摩擦學(xué)性能改善，光學(xué)增強(qiáng)，視覺(jué)/美學(xué)提升以及許多其他領(lǐng)域，涉及范圍廣泛。已經(jīng)建立的應(yīng)用程序。加工工具可能是該沉積技術(shù)的常見(jiàn)應(yīng)用之一，有時(shí)與化學(xué)氣相沉積（CVD）結(jié)合使用，以延長(zhǎng)其使用壽命，減少摩擦并改善熱性能。然而，CVD工藝在較高的溫度下進(jìn)行，從而在涂層和基材中產(chǎn)生較高的應(yīng)力，基本上僅在需要使用該工藝沉積所需的涂層時(shí)才使用。為了改進(jìn)此技術(shù)，已進(jìn)行了多項(xiàng)研究，以優(yōu)化PVD技術(shù)，方法是增加等離子體電離，減少暗區(qū)（反應(yīng)器中沒(méi)有沉積物的區(qū)域），改善靶材的使用，提高原子轟擊效率，甚至提高沉積速率并優(yōu)化氣體選擇。