電子束鍍膜設備介紹

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電子束蒸鍍（Electron Beam Evaporation）是物理氣相沉積的一種。與傳統(tǒng)蒸鍍方式不同，電子束蒸鍍利用電磁場的配合可以精準地實現(xiàn)利用高能電子轟擊坩堝內(nèi)靶材，使之融化進而沉積在基片上。電子束蒸鍍可以鍍出高純度的薄膜。

電子束蒸發(fā)鍍膜機的系統(tǒng)裝置介紹

1、系統(tǒng)自動監(jiān)控和保護功能強，包括斷水報警、相序檢測與保護、溫度檢測與保護、真空系統(tǒng)檢測與保護等。

2、分子篩吸附裝置，避免機械泵返油造成膜層污染，提高薄膜純凈度。

3、膜厚監(jiān)測及控制系統(tǒng)，可在線監(jiān)測及控制膜層厚度，膜厚儀與基片擋板聯(lián)動，形成閉環(huán)控制。采用晶振膜厚儀

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