派瑞林涂層是化學(xué)氣相沉積法，是反應(yīng)物質(zhì)在氣態(tài)條件下發(fā)生空間氣相化學(xué)反應(yīng)，在固態(tài)基體表面直接生成固態(tài)物質(zhì)，進(jìn)而在基材表面形成涂層的一種工藝技術(shù)。派瑞林薄膜制備過(guò)程分為三步：?jiǎn)误w的汽化、裂解、在基材表面進(jìn)行附著沉積。

       紫外線照射的薄膜與未曝光的薄膜之間的故障時(shí)間之間的巨大差異為聚對(duì)二C和N的正確使用條件提供了重要的認(rèn)識(shí)。聚對(duì)二D，C，N，AF4的化學(xué)結(jié)構(gòu)定義了由于紫外線引起的降解接觸。聚對(duì)二N是未取代的烴分子，聚對(duì)二C每個(gè)重復(fù)單元具有一個(gè)加氯基，聚對(duì)二D每個(gè)重復(fù)單元具有兩個(gè)加氯基。相比之下，聚對(duì)二AF4用氟原子取代了化學(xué)品苯環(huán)上的氫原子，從而大大增強(qiáng)了其紫外線穩(wěn)定性。

       真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學(xué)氣相沉積)、MI-CVD(中溫化學(xué)氣相沉積)等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍?cè)O(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的DC電源做低溫涂層條件下，當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3μm時(shí)，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個(gè)不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差?？梢姡嗷″兡づc磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，為了盡可能地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性，實(shí)現(xiàn)互補(bǔ)，將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機(jī)應(yīng)運(yùn)而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法増厚涂層，后再利用多弧鍍達(dá)到終穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。

       原子層沉積是在一個(gè)加熱反應(yīng)器中的襯底上連續(xù)引入至少兩種氣相前驅(qū)體物種，化學(xué)吸附的過(guò)程直至表面飽和時(shí)就自動(dòng)終止，適當(dāng)?shù)倪^(guò)程溫度阻礙了分子在表面的物理吸附。

       目前可以沉積的材料包括：氧化物，氮化物，氟化物，金屬，碳化物，復(fù)合結(jié)構(gòu)，硫化物，納米薄層等。 中空納米管，隧道勢(shì)壘層，光電電池性能的提高，納米孔道尺寸的控制，高高寬比納米圖形，微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）的反靜態(tài)阻力涂層和疏水涂層的種子層，納米晶體，ZnSe涂層，納米結(jié)構(gòu)，中空納米碗，存儲(chǔ)硅點(diǎn)涂層，納米顆粒的涂層，納米孔內(nèi)部的涂層，納米線的涂層。

       派瑞林(Parylene)中文名為聚對(duì)二，是一種高分子熱可塑性聚合體，由單體對(duì)二在真空狀態(tài)下均勻分布在被涂裝物的縫隙和表層然后聚合。運(yùn)用氣相沉積的處理技術(shù)，可以于物體表面均勻涂覆形成膜厚，是一種保護(hù)性高分子材料。派瑞林(Parylene)它可在真空下氣相沉積，派瑞林(Parylene)活性分子的良好穿透力能在元件內(nèi)部、底部，周圍形成無(wú)，厚度均勻的透明絕緣涂層，給元件提供一個(gè)完整的防護(hù)涂層，抵御酸堿、鹽霧、霉菌及各種腐蝕性氣件的侵害，這種室溫沉積制備的0.1～100μm薄膜涂層，厚度均勻、致密無(wú)、透明無(wú)應(yīng)力、不含助劑、不損傷工件、有優(yōu)異的電絕緣性和防護(hù)性，是當(dāng)代有效的防潮、防霉、防腐、防鹽霧涂層材料。