IMD模內(nèi)注塑工藝，這是從此物錄使用的一種國際流行的工藝，其實(shí)這種工藝很早就有了，故事就不再講了。但由于成本問題真正應(yīng)用到產(chǎn)品設(shè)計(jì)領(lǐng)域并不久，IMD工藝采用模內(nèi)高溫注塑，一個(gè)手機(jī)殼成形需要出模、出片、印刷、蓋白、注塑、熱壓、質(zhì)檢等多個(gè)流程，把畫面植入殼體中間層，永遠(yuǎn)不會(huì)褪色變黃，殼體拋光，成像立體感強(qiáng)，高清，臟的時(shí)候一擦就干凈了，相對來說優(yōu)點(diǎn)還是很多的。

金屬蝕刻加工速率和側(cè)蝕量在蝕刻加工中兩個(gè)關(guān)鍵同時(shí)也是較為重要的參數(shù)。于材料表面的鈍化等因素有些部位的金屬蝕刻會(huì)有遲后效應(yīng)特別是對不銹鋼的蝕刻這種現(xiàn)象更為明顯。影響蝕刻速度的另一個(gè)重要因素就是公差速度越快對公差的精度控制就越困難。比如當(dāng)一個(gè)要求公差為士0.00m的工件，在設(shè)計(jì)蝕刻工藝時(shí)需要確定其蝕刻速度，當(dāng)然公差一定是和深度相對應(yīng)的，蝕刻深度越大公差也越大，反之則越小。

曝光顯影步驟和沖刷步驟：把產(chǎn)品放在治具上印上感光油，然后放在曝光設(shè)備下，把不用蝕刻的部分用菲林片遮蔽起來，后顯影，因曝光部分與未曝光部分的溶解度不樣，所以經(jīng)過沖刷后，LOGO的圖案就會(huì)顯現(xiàn)出來，不要的部分被去除。曝光顯影工藝流程中拋光工序風(fēng)輪加青蠟更改為風(fēng)輪加青臘，可解決拋光后出現(xiàn)的不良現(xiàn)象。：不同的物質(zhì)通過對不同波長紫外光的吸收，分子會(huì)發(fā)生能級(jí)躍遷，從基態(tài)躍遷至激發(fā)態(tài)，改變物質(zhì)化學(xué)性能。曝光顯影工藝就是指利用物質(zhì)這特點(diǎn)，由高精度紫外平行光源通過掩膜版對涂有特定吸收波長的油墨進(jìn)行紫外光照射，然后通過化學(xué)去除多余涂層，從而達(dá)到圖形轉(zhuǎn)印的過程稱之為曝光顯影工藝。銘牌曝光顯影廠家


曝光顯影時(shí)，在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。靜電潛像電位越高的部分，吸附色粉的能力越強(qiáng);靜電潛像電位越低的部分，吸附色粉的能力越弱。東莞五金感光之曝光顯影工藝介紹：不同的物質(zhì)通過對不同波長紫外光的吸收，分子會(huì)發(fā)生能級(jí)躍遷，從基態(tài)躍遷至激發(fā)態(tài)，改變物質(zhì)化學(xué)性能。多用在模擬復(fù)印機(jī)中。我們的經(jīng)營理念：客戶排在首位，員工第二，股東第三；用人規(guī)則：客戶排在首位，信譽(yù)責(zé)任，改變成長，包容分享，團(tuán)隊(duì)協(xié)作，感恩一切，公司利益高于個(gè)人利益，專注聚焦馬上行動(dòng)反轉(zhuǎn)顯影中，感光鼓與色粉電荷極性相同。顯影時(shí)，通過感光鼓和顯影輥之間的電場作用，碳粉被吸到感光鼓曝光區(qū)域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。多用在數(shù)碼復(fù)合機(jī)與激光打印機(jī)中。銘牌曝光顯影廠家