一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷(xiāo)售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

X熒光測(cè)厚儀可調(diào)整測(cè)量位置，非常敏捷快速?；蚴菧y(cè)量位置已完成登陸時(shí)，可連續(xù)自動(dòng)測(cè)定，利用座標(biāo)補(bǔ)正、連結(jié)頻道，來(lái)應(yīng)付各種測(cè)量軌跡。亦可用自動(dòng)測(cè)定來(lái)作標(biāo)準(zhǔn)片校正。

　　測(cè)定部顯示盡像的表示：X線照射部可由WINDOWS畫(huà)面上取得照射部的表示。從準(zhǔn)儀照射測(cè)定物的位置，可由倍率率更機(jī)能來(lái)實(shí)現(xiàn)盡面上測(cè)出物放大。。。

一六儀器 專(zhuān)業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車(chē)電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

能量色散X熒光光譜儀定義及原理

X射線熒光光譜儀是一種可以對(duì)多元素進(jìn)行快速同時(shí)測(cè)定的儀器。試樣受X射線照射后，其中各元素原子的內(nèi)殼層（K，L或M層）電子被激發(fā)逐出原子而引起電子躍遷，并發(fā)射出該元素的特征X射線熒光。每一種元素都有其特定波長(zhǎng)的特征X射線。能散型X射線熒光光譜儀（EDXRF）利用熒光X射線具有不同能量的特點(diǎn)，由探測(cè)器本身的能量分辨本領(lǐng)來(lái)分辨探測(cè)到的X射線。通過(guò)電鍍，可以再機(jī)械制品上獲得裝飾保護(hù)性和各種功能性的表面層，還可以修復(fù)磨損和加工失誤的工件，鍍層厚度測(cè)量已成為加工工業(yè)、表面工程質(zhì)量檢測(cè)的重要一環(huán)，是產(chǎn)品達(dá)到優(yōu)等質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的必備手段。

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  X射線熒光光譜分析可以非破壞性同時(shí)完成組分和厚度測(cè)試，厚度的測(cè)量范圍視材料和元素而定，通常在1nm-50um之間。X射線熒光光譜法分析鍍層與其常規(guī)定量分析法相比較，被測(cè)元素的特征X射線熒光強(qiáng)度不僅與鍍層中待測(cè)元素和基材的組成有關(guān)，而且與厚度直接相關(guān)。能量色散X射線熒光光譜分析相對(duì)其他分析方法，具有無(wú)需對(duì)樣品進(jìn)行特別的化學(xué)處理、快速，方便，測(cè)量成本低等明顯優(yōu)勢(shì)，特別適合用于各類(lèi)相關(guān)企業(yè)作為過(guò)程控制和檢測(cè)使用。是目前應(yīng)用為廣泛，具有速度快、無(wú)損化以及可實(shí)現(xiàn)多鍍層同時(shí)分析等特點(diǎn)。其電鍍工藝流程如下：浸酸→全板電鍍銅→圖形轉(zhuǎn)移→酸性除油→二級(jí)逆流漂洗→微蝕→二級(jí)浸酸→鍍錫→二級(jí)逆流漂洗→浸酸→圖形電鍍銅→二級(jí)逆流漂洗→鍍鎳→二級(jí)水洗→浸檸檬酸→鍍金→回收→2-3級(jí)純水洗→烘干。