鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經驗,數十項ICP檢測標準的起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應用的國產ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質之選！

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鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀

1.   光路形式：Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀

2.   光室恒溫：(30±0.2)℃      

3.   光柵類型：離子刻蝕全息平面光柵

4.   分辨率：不大于0.007nm  

5.   刻線密度：3600g/mm          

6.   高頻發(fā)生器震蕩頻率：40.68MHz   功率穩(wěn)定度：0.1%（長期25℃典型值）

7.   震蕩類型：自激式        

8.   進樣方式：蠕動泵進樣

配有多種霧室（旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室）

9.   霧1化器：同心霧化1器

10. 重復性：RSD ≤1.0%

11. 穩(wěn)定性：RSD ≤2.0%（2小時）

12. 冷卻氣：10-20L/min

13. 輔助氣：0-1.5 L/min

14. 載氣：0.4-1L/min

15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（長×寬×高）

16. 重量：240公斤

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統(tǒng)

儀器采用徑向觀測與軸向觀測設計，適應亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。

優(yōu)化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性，開機即可測量。 包圍式立體控溫系統(tǒng)，保障光學系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。

光源

固態(tài)射頻發(fā)生器，穩(wěn)定，體積小巧，，匹配速度快

冷錐消除尾焰技術，地降低自吸效應和電離干擾，從而獲得更寬的動態(tài)線性范圍和更 低的背景，保證準確的測量結果。 具有綠色節(jié)能待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節(jié)約使用成本。

簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，的位置重現。 實時監(jiān)控儀器運行參數，CAN工業(yè)現場總線，保障通訊可靠。

進樣系統(tǒng)

簡潔的炬管安裝設計，自動定位炬管位置，的位置重現。

ICP光譜儀使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩(wěn)定。 多通道12滾輪蠕動泵，提升樣品導入穩(wěn)定性。

檢測器

大面積背照式CCD檢測器,全譜段響應，高紫外量子化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動態(tài)范

圍和極快的信號處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，從而獲得更為快速、準確的分析結果。

ICP光譜儀具有同類產品中靶面尺寸，像素，單像素面積24μm X 24μm，三級半導體制冷,制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。

軟件系統(tǒng)

人性化的界面設計，流暢易懂，簡便易用，針對分析應用優(yōu)化的軟件系統(tǒng)，無須復雜的方法開發(fā)， 即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設置，直觀的測試結果顯示。

安全防護

電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護，避免用戶誤操作可能帶來的風險 防紫外觀測窗