湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術服務。

雙極性脈沖中頻靶電源一般帶孿生靶或雙靶運行。兩個靶的工作電壓極性相反同時又不斷互換極性，電壓極性為負時的磁控靶發(fā)生濺射，極性為正時的那個磁控靶不產(chǎn)生濺射。??由于陰陽極間電場正負極性來回變化，使電子路徑延長，與工作氣體碰撞次數(shù)增加，故單個磁控靶承載同樣功率(其它真空環(huán)境條件相同)時，選用雙極脈沖中頻靶電源比用純直流靶電源和脈沖直流中頻靶電源時，工作氣體的離化幾率和靶材的沉積速率均要高一些。??磁控靶陰極電壓極性為負時，其單脈沖氣體放電應與直流氣體放電伏-安特性曲線異常輝光放電段及之前段的變化規(guī)律(趨勢)相符。工件放人爐內(nèi)作為陰極，爐體作為陽極，再通人少量氨、氮或氮亞混合氣體，然后在兩極間施加一定電壓使氮電離，氮電離后即以髙速沖擊工件，離子的動能轉化為熱能將工件加熱至滲氮溫度。??

在運行的射頻輝光放電等離子體中，由于離子和電子遷移率的不同將導致陰極負偏壓的形成，在陰極表面建立一個直流負偏壓是進行射頻濺射工藝的必要條件。兩個面積相等的電極置于射頻輝光放電等離子體中，不可能建立陰極靶表面的負偏壓，不可能產(chǎn)生濺射。

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輝光放電時，在兩個電極附近聚集了較多的異號空間電荷，因而形成明顯的電位降落，分別稱為陰極壓降和陽極壓降。陰極壓降又是電極間電位降落的主要成分，在正常輝光放電時，兩極間的電壓不隨電流變化，即具有穩(wěn)壓的特性。

Roth等人在實驗室的一臺氣體放電等離子體實驗裝置中實現(xiàn)了Ar、He和空氣的“APGD”。1993年Okazaki小組利用金屬絲網(wǎng)（絲直徑0.035mm，325目）電極為PET膜（介質）、頻率為50Hz的電源，在1.5mm的氣體（亞氣、氮氣、空氣）間隙中做了大量的實驗，并宣稱實現(xiàn)了大氣壓輝光放電。由于離子氮化法不是依靠化學反應作用，而是利用離子化了的含氮氣體進行氮化處理，所以工作環(huán)境十分清潔而無需防止公害的特別沒備。