曝光也叫感光，放在已經(jīng)噴了感光油的產(chǎn)品上面，主要的目的是通過(guò)曝光讓圖案在材料上對(duì)應(yīng)成型，感光(曝光)過(guò)程中要特別注意夾具一定要放好，不能歪斜，否則產(chǎn)品圖案就會(huì)出現(xiàn)歪斜現(xiàn)象，從而產(chǎn)生不良品，也要定期檢查，不能出現(xiàn)折疊現(xiàn)象，否則也會(huì)出現(xiàn)不良品。滲鍍：所謂滲鍍，即是由于干膜與覆銅箔板表面粘結(jié)不牢，使鍍液深入，而造成"負(fù)相"部分鍍層變厚及鍍好的錫鉛抗蝕層，給蝕刻帶來(lái)問(wèn)題。很容易造成印制電路板的報(bào)廢，是生產(chǎn)中特別要注意的要點(diǎn)。

一般來(lái)說(shuō)除油可以分為：化學(xué)或其他方法除去零件表面油污。目前常用方法主要有堿性除油、有機(jī)溶液除油及金屬清洗劑除油等等。在蝕刻加工中除油干凈也保證了后期防蝕層制作的質(zhì)量，防蝕層則影響蝕刻加工的精度。

假如不進(jìn)行清潔的話，蝕刻加工的溶液就會(huì)殘留才資料外表，蝕刻加工是對(duì)資料形成不斷的腐蝕，這么蝕刻加工完結(jié)以后的資料就會(huì)發(fā)作變色或許被損壞原有的作用。

曝光顯影工藝就是指利用物質(zhì)這一特點(diǎn)，由高精度紫外平行光源通過(guò)掩膜版對(duì)涂有特定吸收波長(zhǎng)的油墨進(jìn)行紫外光照射，然后通過(guò)化學(xué)去除多余涂層，從而達(dá)到圖形轉(zhuǎn)印的過(guò)程稱之為曝光顯影工藝。

曝光顯影技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

1、解決3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷難題；

2、圖形轉(zhuǎn)印技術(shù)單層、多層套印精度高；

3、霧化噴涂確保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；

4、采用圖形轉(zhuǎn)印技術(shù)，良率較高；

5、4-6寸蓋板單制程產(chǎn)能優(yōu)勢(shì)明顯；

6、較薄的油墨利于貼合，提高制程整體良率。

蝕刻深度的均勻性主要受4個(gè)方面的影響：材料、蝕刻溶液、蝕刻過(guò)程的物理參數(shù)和蝕刻時(shí)間。綜上所述，可以知道影響確定蝕刻速度的因素主要有蝕刻深度要求及公差要求。對(duì)于蝕刻深度大的工件可以設(shè)計(jì)成高蝕刻速度的工藝方案當(dāng)對(duì)公差要求高時(shí)可采用分次蝕刻的方法進(jìn)行，即先采用高速度的蝕刻方法，當(dāng)接近設(shè)計(jì)要求深度時(shí)采用低蝕刻速度的方法來(lái)保證公差。對(duì)于蝕刻深度淺、公差要求嚴(yán)的工件則應(yīng)采用蝕刻速度較慢的工藝方法。