廣州景頤光電科技有限公司擁有行業(yè)內(nèi)的專業(yè)技術(shù)人才及完善的售后服務(wù)體系，提供眾多光譜，光斑分析儀，透過(guò)率分析儀器，而且以科學(xué)發(fā)展觀為指導(dǎo)，深化改革，創(chuàng)新發(fā)展，在全體員工的共同努力下，榮獲多項(xiàng)榮譽(yù)，企業(yè)綜合素質(zhì)不斷提升。公司擁有產(chǎn)品有：光斑分析儀，光纖光譜儀，透過(guò)率檢測(cè)儀，反射率檢測(cè)儀，顯微透過(guò)率檢測(cè)儀，直通光纖，激光器，積分球等。

光斑分析儀

傳統(tǒng)光斑的分析方式有明顯的局限性，例如燒蝕法等，已經(jīng)不能滿足越來(lái)越高的應(yīng)用需求及精度要求，因此需要具有更、更、成本低廉、操作方便、易于分析和保存的方式，實(shí)現(xiàn)對(duì)光斑參數(shù)的測(cè)量和分析。隨著CCD技術(shù)和計(jì)算機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展，本文基于

CCD探測(cè)器為基礎(chǔ)，利用成像方式間接測(cè)量光斑特性的系統(tǒng)。小光斑光斑品質(zhì)分析儀

針對(duì)光束的測(cè)量和分析，過(guò)去幾十年中，陸續(xù)出現(xiàn)過(guò)許多方法，如燒蝕法可以測(cè)量強(qiáng)光的光強(qiáng)分布等，人們通過(guò)這種方法測(cè)量光束尤其是強(qiáng)光的面積和形狀等。通過(guò)在一個(gè)特殊的靶面，利用強(qiáng)光源的照射形成一個(gè)燒灼的痕跡，針對(duì)這個(gè)燒灼痕跡的進(jìn)一步分析，估算出光斑的一些基本參數(shù)。小光斑光斑品質(zhì)分析儀

這種方法對(duì)于某些光源是有效的，例如具有能量集中特性的激光。但是，這種適用于強(qiáng)光源的方法，對(duì)于弱光源并不十分適用。并且，該方法得到的一些基本參數(shù)都是非常粗略的估計(jì)，精度往往達(dá)不到要求，并且受到費(fèi)用和周期的限制，每次測(cè)量的數(shù)據(jù)也不容易保存供以后分析。小光斑光斑品質(zhì)分析儀

CCD校正模塊提供多種方式校正CCD設(shè)備，包括一點(diǎn)校正和兩點(diǎn)校正，使得由于硬件設(shè)備導(dǎo)致的圖像失真得到復(fù)原。數(shù)據(jù)采集模塊，采用連續(xù)和觸發(fā)采集，滿足對(duì)不同類型光源的采集要求。圖像去噪，提供多種去噪算法，提高成像質(zhì)量。參數(shù)計(jì)算，依據(jù)成像數(shù)據(jù)求取光斑的各項(xiàng)特征參數(shù)，包括質(zhì)心、光強(qiáng)對(duì)比度等。增強(qiáng)顯示模塊，包括二維光斑模塊、三維光斑模塊，利用各種偽彩色變換，提供對(duì)光強(qiáng)空間分布的多種觀察方式。小光斑光斑品質(zhì)分析儀

系統(tǒng)所選擇的CCD為面陣類型，隨著CCD工藝的發(fā)展，面陣型CCD成像設(shè)備的性價(jià)比得到了持續(xù)不斷的提高，越來(lái)越多地應(yīng)用在不同領(lǐng)域。而在面陣CCD各傳感器探測(cè)單元在成像過(guò)程中，不可避免地會(huì)出現(xiàn)，相同照度卻產(chǎn)生不同輸出信號(hào)的情況，這種情況成為CCD的不均勻性。雖然不均勻性隨著制作工藝得到了部分改善，但是依然對(duì)成像產(chǎn)生相當(dāng)大的影響，尤其在對(duì)于成像質(zhì)量以及測(cè)量數(shù)據(jù)方面要求較高的領(lǐng)域。小光斑光斑品質(zhì)分析儀