PVD真空鍍膜有三種方式，即揮發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和離子鍍。在其中，揮發(fā)物質(zhì)的分子被電子器件撞擊弱電解質(zhì)后，以正離子沉積在固態(tài)表面，稱之為離子鍍。這類技術(shù)是D.麥托阿斯特里于1963年明確提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與負(fù)極磁控濺射技術(shù)的融合。真空泵離子鍍膜又可分成電孤離子鍍、磁控濺射離子鍍、中空負(fù)極離子鍍膜三種方法。

PVD真空鍍膜前與PVD電鍍后的區(qū)別體現(xiàn)在哪里？真空鍍膜加工廣泛應(yīng)用在各個(gè)行業(yè)當(dāng)中，其中不乏機(jī)械、電子、五金、航空航天、化工等領(lǐng)域，那么PVD真空鍍膜前與鍍膜后有什么區(qū)別，體現(xiàn)在哪里？這么多行業(yè)都在使用肯定有它存在的理由。簡(jiǎn)單說(shuō)說(shuō)PVD真空鍍膜前后有什么不一樣的地方：產(chǎn)品經(jīng)過(guò)鍍膜后，會(huì)在產(chǎn)品表面形成一種保護(hù)膜，可以有效抵抗腐蝕，更加耐磨，提升產(chǎn)品質(zhì)量。

pvd真空蒸發(fā)鍍膜：原理及特點(diǎn)。原理：熱蒸發(fā)是在真空狀況下，將所要蒸鍛的材料利用電阻加熱達(dá)到熔化溫度，使原子蒸發(fā)，到達(dá)并附著在基板表面上的一種鍛膜技術(shù)。特點(diǎn)：設(shè)備簡(jiǎn)單、操作容易；海膜純度高，質(zhì)量好，厚度可控；速率快、效率好、可用掩膜獲得清晰圖形；薄膜生長(zhǎng)機(jī)理比較單純。缺點(diǎn)：不易獲得結(jié)晶結(jié)構(gòu)的薄膜；粘膜與基片附著力小；工藝正復(fù)性不夠好。


PVD鍍膜應(yīng)用中有什么好處？塑料模具由于其結(jié)構(gòu)復(fù)雜決定了加工難度大，故造價(jià)相對(duì)較高，所以提高模具的壽命就是一個(gè)主要課題，尤其鏡面和蝕紋面，就特別容易磨損，這一直是一件令人十分苦惱的事情。經(jīng)過(guò)真空涂層的塑料模具表面硬度的提高，使得抗磨耗性顯著提高；而且因模具表面光潔度的增強(qiáng)和摩擦系數(shù)的降低使得膠料的流動(dòng)性更好以及塑料產(chǎn)品更易脫模。同時(shí)真空涂層更因其特殊的晶格結(jié)構(gòu)在模具表面形成致密的保護(hù)層，可以非常有效的解決腐蝕的弊病。更為重要的是，由于我們的涂層完全不會(huì)改變模具的表面狀況，無(wú)論是鏡面還是蝕紋面，甚至要求極高的CD模具。