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輝光離子滲氮電話“本信息長期有效”

發(fā)布時間:2020-12-13 07:16  

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湖北豐熱科技有限公司(原武漢離子熱處理研究所),專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè);是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐,并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務(wù)。

具有高能量的氮離子轟擊工件表面,由動能轉(zhuǎn)化為熱能加熱工件,同時氮離子吸取電子還原成原子被工件表面吸收并向內(nèi)層擴(kuò)散。由于離子氮化法不是依靠化學(xué)反應(yīng)作用,而是利用離子化了的含氮?dú)怏w進(jìn)行氮化處理,所以工作環(huán)境十分清潔而無需防止公害的特別沒備。離子轟擊工件表面還產(chǎn)生陰極濺射,濺射出鐵離子與氮離子化合形成氮化鐵FeN,F(xiàn)eN重新附著在工件表面,然后分解為Fe2N和Fe3N并放出氮原子向工件內(nèi)擴(kuò)散

兩種靶電源不同之處:選用(工藝型)雙極矩形波或正弦波中頻靶電源,因其輸出的電壓和電流的占空比可以大范圍連續(xù)調(diào)節(jié),鍍膜時電源的工藝參數(shù)適應(yīng)范圍比“經(jīng)濟(jì)型”中頻靶電源要寬很多;適用于需要經(jīng)常變化的磁控濺射鍍膜工藝和不同材質(zhì)的膜層。?(經(jīng)濟(jì)型)雙極性矩形波或正弦波中頻靶電源的輸出電壓或電流的工藝調(diào)節(jié)范圍偏窄,若相關(guān)參數(shù)選配合適,一般可用于磁控濺射鍍膜工藝相對固定和單一的工業(yè)生產(chǎn)中,其優(yōu)點(diǎn)是靶電源價格可以相對便宜。低氣壓下的輝光放電雖然可以處理這些材料,但存在成本、處理效率等問題,目前無法規(guī)?;瘧?yīng)用于紡織品的表面處理。??


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在陰極附近,二次電子發(fā)射產(chǎn)生的電子在較短距離內(nèi)尚未得到足夠的能使氣體分子電離或激發(fā)的動能,所以緊接陰極的區(qū)域不發(fā)光。而在陰極輝區(qū),電子已獲得足夠的能量碰撞氣體分子,使之電離或激發(fā)發(fā)光。脈沖或正弦半波中頻靶電源的單個脈沖的氣體放電應(yīng)與直流氣體放電伏-安特性曲線異常輝光放電段及之前段的變化規(guī)律相符。1831~1835年,M.法拉第在研究低氣壓放電時發(fā)現(xiàn)輝光放電現(xiàn)象和法拉第暗區(qū)。1858年,J.普呂克爾在1/100托下研究輝光放電時發(fā)現(xiàn)了陰極射線,成為19世紀(jì)末粒子輻射和原子物理研究的先驅(qū)。