真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊亞氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業(yè)設備，多用磁場靜止靶源。

水鍍：分子結合。蒸鍍和濺鍍都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優(yōu)點。真空蒸鍍法是在高真空下為金屬加熱，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在樣品表面形成金屬薄膜的方法。蒸鍍用金屬為Al、金等。一般的電鍍，就是指水鍍，水鍍是導電的，真空鍍現(xiàn)在有不連續(xù)鍍膜可以不導電因為電鍍一般是用作表面(外觀面),濺鍍主要是做內(nèi)表面(防EMI,也有為小鍵做表面處理的,像一些按鍵)相對而言水電鍍的膜厚比較厚一點大約在0.01-0.02MM左右,真空濺鍍的膜厚在0.005MM左右,電鍍的耐磨性和附著力都相對好一些.

真空鍍膜機是目前制作真空條件應用較為廣泛的真空設備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴散泵 機械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。本公司從事真空鍍膜設備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗豐富的技術團隊及好的售后服務隊伍為您解決設備在使用過程中遇到的任何問題。下面，詳細介紹真空鍍膜機的各部分組成及其工作原理。

硬質涂層中的應用：切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。

在防護涂層中的應用：飛機發(fā)動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等。

在光學薄膜領域中的應用：增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。

在建筑玻璃方面的應用：陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。

在太陽能利用領域的應用：太陽能集熱管、太陽能電池等。

在集成電路制造中的應用：薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。