常用的光學(xué)鍍膜有哪些？

干涉濾光片

是種類(lèi)多、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的一類(lèi)光學(xué)薄膜。它的主要功能是分割光譜帶。常見(jiàn)的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。截止濾光片可以把所考慮的光譜區(qū)分成兩部分，一部分不允許光通過(guò)（稱(chēng)為截止區(qū)），另一部分要求光充分通過(guò)（稱(chēng)為帶通區(qū)）。按照通帶在光譜區(qū)的位置又可分為長(zhǎng)波通和短波通二種，它們簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)分別為，這里H、L分別表示厚的高、低折射率層，m為周期數(shù)。具有以上結(jié)構(gòu)的膜系稱(chēng)為對(duì)稱(chēng)周期膜系。如果所考慮的光譜區(qū)很寬或通帶透過(guò)率的波紋要求很高，膜系結(jié)構(gòu)會(huì)更加復(fù)雜。

帶通濾光片只允許光譜帶中的一段通過(guò)，而其他部分全部被濾掉,按照它們結(jié)構(gòu)的不同可分為法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片。

光學(xué)薄膜的結(jié)構(gòu)與法－珀標(biāo)準(zhǔn)具相同，因?yàn)橛伤@得的透過(guò)光譜帶都比較窄，所以又叫窄帶干涉濾光片。這種濾光片的透過(guò)率對(duì)薄膜的損耗非常敏感，所以制備透過(guò)率很高、半寬度又很窄的濾光片是很困難的。多腔濾光片又叫矩形濾光片，它可以做窄帶帶通濾光片，又可以做寬帶帶通濾光片，制備波區(qū)較寬，透過(guò)率高，波紋小的多腔濾光片同樣是困難的。

誘增透濾光片是在金屬膜兩邊匹配以適當(dāng)?shù)碾娊橘|(zhì)膜系，以增加勢(shì)透過(guò)率，減少反射，使通帶透過(guò)率增加的一類(lèi)濾光片。雖然它的通帶性能不如全電介質(zhì)法－珀濾光片,卻有著很寬的截止特性,所以還是有很大的應(yīng)用價(jià)值。特別在紫外區(qū)，一般電介質(zhì)材料吸收都比較大的情況下,它的優(yōu)越性就更明顯了。圖3的a、b、c分別給出法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片的典型曲線(xiàn)。

真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)介紹

真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，鍍膜機(jī)器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式，鄙人就電阻加熱和電子槍蒸發(fā)兩種方式作介紹，因?yàn)榇藘煞N方式我應(yīng)用的比較多。

電阻蒸發(fā)根據(jù)其結(jié)構(gòu)和工作原理是目前為止應(yīng)用多，廣泛的蒸發(fā)方式，也是應(yīng)用時(shí)間長(zhǎng)的蒸發(fā)方式。它的工作方式是，將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個(gè)電極中間，在鎢舟中央加上藥材，再緩緩給電極通電，電流通過(guò)鎢舟，鎢舟通電發(fā)熱，這些低電壓，大電流使高熔點(diǎn)的鎢舟產(chǎn)生熱量，再熱傳導(dǎo)給鍍膜材料，當(dāng)鎢舟的熱量高于鍍膜材料熔點(diǎn)的時(shí)候，材料就升華或者蒸發(fā)了，此方法由于操作方便，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本低廉，故被很多設(shè)備應(yīng)用，但是其蒸發(fā)出來(lái)的薄膜由于致密性不佳，加上很多材料無(wú)法采用這種方式蒸鍍，所以其有一定局限性。鎢舟蒸發(fā)鍍膜材料的時(shí)候，材料的熔點(diǎn)必須小于鎢舟的熔點(diǎn)，否則就沒(méi)有辦法進(jìn)行。

電子束鋼帶真空鍍膜機(jī)有許多長(zhǎng)處有哪些

1、可選擇的鍍膜資料多而不受資料熔點(diǎn)約束。因而，除了熱鍍鋅中常見(jiàn)的鍍鋅、鋁、錫以外，簡(jiǎn)直一切的金屬資料都能夠蒸鍍，還可鍍品種許多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。這為開(kāi)展新式帶鋼資料供給了很大的自由度。

2、鍍膜資料利用率高，環(huán)境污染小。真空鍍膜屬干式鍍膜，沒(méi)有有害液體、氣體的發(fā)生。

3、帶鋼鍍膜質(zhì)量好，能取得均勻、滑潤(rùn)且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。鋼帶鍍膜前可經(jīng)電子束預(yù)熱外表活化，鍍膜純度高，沒(méi)有中心硬脆的合金層，能夠一次沖壓成型，甚至能夠卷成直經(jīng)很小的管而不掉落鍍層。

4、技能靈敏，改動(dòng)品種方便，能夠依據(jù)商品請(qǐng)求靈敏地完成在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層，能夠一同鍍兩種資料到達(dá)鍍混合膜。鍍膜厚度易于操控，并且能夠鍍制超薄膜。

磁控濺射鍍膜設(shè)備如何使用效率才高?

磁控濺射鍍膜設(shè)備如何使用效率才高？ 這就需要增加氣體的理化效率。增加氣體的離化效率能夠有效的提高濺射的效率。 通常在健身過(guò)程中，經(jīng)過(guò)加速的入射離子轟擊靶材陰極表面的時(shí)候，會(huì)產(chǎn)生電子發(fā)射，而這些在陰極表面產(chǎn)生的電子開(kāi)始向陽(yáng)極加速進(jìn)入負(fù)輝光區(qū)，和中性氣體原子進(jìn)行碰撞，產(chǎn)生的自持的輝光放電所需離子。電子在平均只有程隨著電子能量的增大而增大，隨著氣壓的增大而減小，特別是在遠(yuǎn)離陰極的地方產(chǎn)生，它們的熱壁損失也是非常大的，這主要是因?yàn)槠潆x化效率低。 因此可以加上一平行陰極表面的磁場(chǎng)就能夠?qū)⒊跏茧娮酉拗圃陉帢O范圍內(nèi)，能夠有效的增加氣體原子的梨花效率，從而提高磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射效率。