一、天然氧化

這樣的鋁氧化處理加工方法所形成的氧化膜比較薄，厚度通常只能達(dá)到0.5～4微米之間。不僅如此，這樣的氧化方法多孔，并且質(zhì)地較軟。雖然可以具備良好的吸附性，但是這樣的鋁氧化處理加工方法所提升的耐腐蝕以及耐磨性性能，都不如其他方法好。

二、電化學(xué)氧化

這樣的鋁氧化處理加工方法所形成的氧化膜，通常厚度可以達(dá)到5～20微米，能夠提升一定的硬度。進(jìn)而可以形成比較出彩的的絕緣性以及耐熱性。除此之外，所形成的抗蝕能力比起化學(xué)氧化膜更好一些。

三、化學(xué)氧化

現(xiàn)在部分商家選用了花化學(xué)氧化方法來進(jìn)行鋁氧化處理加工。因?yàn)檫@樣的鋁氧化處理加工設(shè)備非常先進(jìn)，操作起來也簡單方便。不僅如此，還具備了較高的生產(chǎn)效率，適用范圍非常廣泛。關(guān)鍵的是，不會受到鋁材零件的尺寸大小以及相關(guān)規(guī)格形狀的限制。

鋁氧化所用的電解液一般為中等溶解能力的酸性溶液，鉛作為陰極，僅起導(dǎo)電作用。鋁以及其鋁合金制品進(jìn)行陽極氧化時(shí)，鋁氧化在陽極作用下發(fā)生了下列的反應(yīng)：2Al--->6e- 2Al3 ；在陰極的作用下發(fā)生下列反應(yīng)：6H2O 6e---->3H2 6OH-；同時(shí)其酸對鋁及制品的生成的氧化膜進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)溶解，其反應(yīng)為：2Al 6H --->2Al3 3H2；Al2O3 6H --->2Al3 3H2O氧化膜的生長過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。

無孔層形成。通電在剛開始的幾秒鐘到幾十秒的時(shí)間之內(nèi)，鋁表面立即生成一層致密的、具有很高絕緣性能的鋁氧化膜層，厚度約0.01～0.1微米，為一層連續(xù)的、無孔的薄膜層，我們稱之為無孔層或者是阻擋層，此膜的出現(xiàn)阻礙了電流的通過和膜層的繼續(xù)增厚。無孔層的厚度與形成的電壓大小成正比關(guān)系，與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。因此，曲線ab段的電壓就表現(xiàn)出其由零開始急劇增大至其值。

低壓硬質(zhì)陽極氧化

絕大多數(shù)鋁合金硬質(zhì)陽極氧化零件，特別是零件的密封面和滑動配合部位，不僅要求膜層具有較高的硬度和厚度，而且還要求低的粗糙度(Ra0.08-0.16)。

 經(jīng)陽極氧化后的鋁材進(jìn)行電解著色，可以提高裝飾效果和商品價(jià)值。氧化膜的厚度、均勻性及結(jié)構(gòu)與電解著色速度和色差有直接關(guān)系。電解著色時(shí)金屬離子是在膜孔底部的阻擋層上還原沉積的。