布置工藝的流程盡可能短，減少交叉往復(fù)，、物流走向合理。要配備人員凈化室、物料凈化室，除配備產(chǎn)品工序要求的用室外，還應(yīng)配備潔具室、洗衣間、暫存室等，每間用室相互獨(dú)立，凈化工程的面積應(yīng)在保證基本要求前提下，與生產(chǎn)規(guī)模相適應(yīng)。凈化工程在設(shè)計(jì)時(shí)，工程的墻、頂板材一般多采用50mm厚的夾芯彩鋼板，其特點(diǎn)為美觀、剛性強(qiáng)。圓弧墻角、門(mén)、窗框等一般采用專(zhuān)用氧化鋁型材。設(shè)計(jì)凈化系統(tǒng)組織的原則是相鄰二級(jí)過(guò)濾器的效率不能太接近，也不能相差太大。一般采用初效、中效、亞(或)三級(jí)過(guò)濾器。也可分四級(jí)，增加一級(jí)過(guò)濾器。

1級(jí)：塵埃易使芯片失效或者穩(wěn)定性下降，當(dāng)金屬塵埃落于集成電路上時(shí)，就可能造成短路。當(dāng)空氣中的酸性離子落在電路上時(shí)，可能將電路腐蝕，因此凈化空調(diào)系統(tǒng)對(duì)微電子工業(yè)而言至關(guān)重要。此外，液晶、光纖的生產(chǎn)也需要1級(jí)潔凈度的要求。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。

在實(shí)際施工中，凈化項(xiàng)目通常分為專(zhuān)業(yè)，分工和分時(shí)。 這種安排有利于各種專(zhuān)業(yè)和工作類(lèi)型的管理。 但是，易于進(jìn)行多塵和無(wú)塵的交叉操作，應(yīng)盡可能避免這種結(jié)構(gòu)布置。 如果不可避免，應(yīng)該防止灰塵和有效清潔。設(shè)計(jì)凈化系統(tǒng)組織的原則是相鄰二級(jí)過(guò)濾器的效率不能太接近，也不能相差太大。一般采用初效、中效、亞(或)三級(jí)過(guò)濾器。也可分四級(jí)，增加一級(jí)過(guò)濾器。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。