PVD真空鍍膜設(shè)備蒸發(fā)系統(tǒng)工作方式

PVD真空鍍膜設(shè)備蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，PVD鍍膜機(jī)的成膜裝置很多的，PVD鍍膜有電阻加熱、射頻濺射、離子鍍等多種方式。PVD鍍膜電阻蒸發(fā)根據(jù)其結(jié)構(gòu)和工作原理是目前為止應(yīng)用多的，PVD鍍膜廣泛的蒸發(fā)方式，PVD鍍膜也是應(yīng)用時(shí)間長(zhǎng)的蒸發(fā)方式。

下面介紹PVD鍍膜電阻加熱和電子槍蒸發(fā)的方式：

PVD鍍膜將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個(gè)電極中間，再熱傳導(dǎo)給PVD鍍膜材料，當(dāng)鎢舟的熱量高于PVD鍍膜材料熔點(diǎn)的時(shí)候，材料就升華或者蒸發(fā)了，PVD鍍膜由于操作方便，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本低廉。PVD鍍膜電子槍蒸發(fā)是到目前為止應(yīng)用多的一種蒸發(fā)方式，PVD鍍膜可以蒸發(fā)任何一種PVD鍍膜料。

將鍍膜材料放在坩堝里面，PVD鍍膜將蒸發(fā)源制作成燈絲形狀，PVD鍍膜由于燈絲的材料是鎢，形成了一股電子束，PVD鍍膜由于電子束溫度非常高，PVD鍍膜可以熔化任何鍍膜藥材凝結(jié)下來(lái)。

至成真空十多年來(lái)專業(yè)從事各種真空鍍膜應(yīng)用設(shè)備制造，多年來(lái)致力于研發(fā)和生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)，以新技術(shù)不斷制造出滿足市場(chǎng)需要的真空電鍍?cè)O(shè)備，為客戶提供定制化的工藝解決方案和機(jī)器。

雙色真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點(diǎn)

很多人對(duì)真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)的了解不是特別全，也不知道具體是應(yīng)用到哪些行業(yè)，以及它在實(shí)際運(yùn)用過(guò)程有哪些優(yōu)缺點(diǎn)?至成真空小編現(xiàn)在詳細(xì)和大家介紹一下:

真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)其應(yīng)用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)其優(yōu)點(diǎn)是:

與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)相比，雙色PVD工藝更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，但外觀效果，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)要在實(shí)現(xiàn)雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎(chǔ)上把需要實(shí)現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來(lái)的區(qū)域就只能表現(xiàn)金屬的本色，表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度為HV600以上）。

真空鍍膜機(jī)分類

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺鍍膜機(jī)射、MBE分子束外延鍍膜機(jī)和PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)等很多種。主要是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程形成薄膜。真空鍍膜機(jī)對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。

根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、離子鍍真空鍍膜設(shè)備、磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜設(shè)備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。夾具運(yùn)轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn) 自轉(zhuǎn)方式，用戶可根據(jù)片尺寸及形狀提出相應(yīng)要求，轉(zhuǎn)動(dòng)的速度范圍及轉(zhuǎn)動(dòng)精度：普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。