2、 去除損傷層：

   硅片在切割過(guò)程會(huì)產(chǎn)生大量的表面缺陷，這就會(huì)產(chǎn)生兩個(gè)問(wèn)題，首先表面的質(zhì)量較差，另外這些表面缺陷會(huì)在電池制造過(guò)程中導(dǎo)致碎片增多。因此要將切割損傷層去除，一般采用堿或酸腐蝕，腐蝕的厚度約10um。

振鑫焱光伏科技有限公司 公司主要服務(wù)項(xiàng)目：長(zhǎng)期常年上門采購(gòu)硅片回收,電池片回收,原生多晶回收,銀漿布回收,單晶硅回收,多晶硅回收,太陽(yáng)能電池片回收,光伏組件回收,電子回收,金屬回收,電路板回收,藍(lán)寶石回收等。

四，磷擴(kuò)散：采取使用涂布源(或液態(tài)源，或固態(tài)氮化物熒光粉片源)來(lái)完成擴(kuò)散所作的PN

結(jié)和結(jié)深一般為0.3-0.5um的。

　　第五，周圍蝕刻：形成在晶片外周表面的擴(kuò)散層時(shí)擴(kuò)散，這將導(dǎo)致電池短路的上和下電極，以及掩蔽濕法腐蝕或干法等離子體刻蝕被用來(lái)除去周圍擴(kuò)散層。

　　六，刪除后的PN 結(jié)。濕法刻蝕或研磨通常用于除去PN 結(jié)的背面。

　　第七，生產(chǎn)上和基電極：真空沉積，化學(xué)鍍鎳或鋁漿印刷使用。首先，產(chǎn)生的基極電極，然后制作上電極。鋁漿印刷是廣泛使用的技術(shù)。和太陽(yáng)能模塊制造商支付了大量的注意力放在這一步。

　　第八，產(chǎn)生反射膜：為了減少反射損失，一層抗反射膜的具有被覆蓋在硅表面上。用于制作防反射涂層的材料是氟化鎂，二氧化硅，氧化鋁，氧化硅，氮化硅，二氧化鈦，五氧化二鉭，等等的方法，方法可以是真空蒸鍍法，離子鍍法，濺射法，印刷法，

PECVD法或噴涂法

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四，排版質(zhì)量控制點(diǎn)

擺片時(shí)電池串頭部與玻璃邊緣距離，尾部與玻璃邊緣距離兩側(cè)電池串到玻璃邊緣距離都必須符合圖紙?jiān)O(shè)計(jì)要求，匯流帶的焊接符合圖紙要求， 引線折彎必須要有一定的角度，況且引線不能有變形的現(xiàn)象。 高溫膠紙的固定必須按按照?qǐng)D紙?jiān)O(shè)計(jì)的去貼，一個(gè)都不能少。

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） 光—熱—電轉(zhuǎn)換方式通過(guò)利用太陽(yáng)輻射產(chǎn)生的熱能發(fā)電，一般是由太陽(yáng)能集熱器將所吸收的熱能轉(zhuǎn)

太陽(yáng)能電池板

換成工質(zhì)的蒸氣，再驅(qū)動(dòng)汽輪機(jī)發(fā)電。個(gè)過(guò)程是光—熱轉(zhuǎn)換過(guò)程；后一個(gè)過(guò)程是熱—電轉(zhuǎn)換過(guò)程，與普通的火力發(fā)電一樣。太陽(yáng)能熱發(fā)電的缺點(diǎn)是效率很低而成本很高，估計(jì)它的投資至少要比普通火電站貴5～10倍。一座1000MW的太陽(yáng)能熱電站需要投資20～25億美元，平均1kW的投資為2000～2500美元。5mm，對(duì)組好邊框之后的組件要定時(shí)的測(cè)量對(duì)角線的尺寸，并做好記錄。因此，適用小規(guī)模特殊的場(chǎng)合，而大規(guī)模利用在經(jīng)濟(jì)上很不合算，還不能與普通的火電站或站相競(jìng)爭(zhēng)。

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