隨著環(huán)保意識日漸加強(qiáng)，傳統(tǒng)拋光工藝已難以滿足行業(yè)對、綠色環(huán)保、低成本生產(chǎn)的要求。倍亮拋光等離子系列為行業(yè)提供了一個(gè)、環(huán)保的表面優(yōu)化解決方案。

等離子拋光技術(shù)中利用穩(wěn)定、自由的等離子，可到達(dá)手工/機(jī)械研磨所到不了的遮蔽位，進(jìn)行、無死角、高精度打磨，表面粗糙度Ra＜0.09μm。

傳統(tǒng)機(jī)械研磨由于利用離心力帶動(dòng)顆粒打磨，工件不可抵抗地受到強(qiáng)大外力撞擊，往往導(dǎo)致出現(xiàn)變形的情況。加之因研磨顆粒較大難以到達(dá)工件遮蔽位，令很多細(xì)節(jié)得不到打磨。

降低生產(chǎn)成本。半自動(dòng)、全自動(dòng)環(huán)保等離子納米拋光設(shè)備采用自動(dòng)化控制，操作簡單，維護(hù)方便，減少作業(yè)人員、降低人工成本。同時(shí)也可為客戶節(jié)省因人工拋光、電解拋光、化學(xué)拋光等傳統(tǒng)拋光方法而造成的許多材料消耗。

等離子拋光技術(shù)，其材料去除速度為1μm/min，是液態(tài)電打磨的10-30倍。全自動(dòng)化拋光效率i高（一般為1-5分鐘/件）。從鑄造到加工的全流程生產(chǎn)中，搭配超級等離子系列，一名技工（出口標(biāo)準(zhǔn)）可處理約20個(gè)/天，大大縮短產(chǎn)品生產(chǎn)周期（注：下表3、4列單位改為個(gè)/天、元/個(gè)）

主要技術(shù)要點(diǎn)是將之前的等離子拋光中的氣態(tài)粒子,原子、分子、原子團(tuán)、氣離子和和電離子得到數(shù)萬倍的增加,而這些離子在對要拋光的工件進(jìn)行物理摩擦?xí)r它們的平均活躍度得到了的增加,它的活躍程度遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于材料表面的活躍度達(dá)數(shù)億倍,使鋁材表面的光潔度脫影而出。

等離子拋光原理

等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米拋光處理可以化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。進(jìn)一步研發(fā)出納米拋光液配方，在拋光液成本上進(jìn)一步降低，使拋光效果進(jìn)一步優(yōu)化

等其他要求精度高標(biāo)準(zhǔn)的行業(yè)

如此精湛的技術(shù)拋光后的效果如何呢?

經(jīng)過多方對比之后發(fā)現(xiàn)，突破后的技術(shù)拋光出的產(chǎn)品就好像一面鏡子，表面光亮，無暇，光滑，和電鍍后的效果幾乎無異。